[實用新型]異質結太陽能電池有效
| 申請號: | 201821052247.8 | 申請日: | 2018-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN208580755U | 公開(公告)日: | 2019-03-05 |
| 發明(設計)人: | 董剛強 | 申請(專利權)人: | 君泰創新(北京)科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/072 | 分類號: | H01L31/072;H01L31/0725;H01L31/0216 |
| 代理公司: | 北京律智知識產權代理有限公司 11438 | 代理人: | 李華;崔香丹 |
| 地址: | 100176 北京市大興區亦*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 摻雜層 透明導電層 單晶硅片 異質結太陽能電池 電池側面 鈍化層 本征 堆疊 本實用新型 載流子復合 載流子收集 非晶硅層 依次層疊 側面 場鈍化 鈍化 覆蓋 | ||
提供一種異質結太陽能電池,包括依次層疊的第一透明導電層、第一摻雜層、第一本征鈍化層、單晶硅片、第二本征鈍化層、第二摻雜層、第二透明導電層,所述第一透明導電層進一步覆蓋層疊的所述第一摻雜層、所述第一本征鈍化層和所述單晶硅片的側面;所述單晶硅片為n型時,所述第一摻雜層為n型摻雜層;所述單晶硅片為p型時,所述第一摻雜層為p型摻雜層。本實用新型的異質結太陽能電池側面無不合理堆疊非晶硅層,可以減少不合理堆疊帶來的鈍化不良等問題,且電池側面覆蓋了透明導電層,一方面可以形成場鈍化效應,減少電池側面的載流子復合損失;另一方面也可以在電池側面增加載流子收集。
技術領域
本實用新型屬于光伏技術領域,具體涉及一種太陽能電池。
背景技術
異質結(SHJ)太陽能電池是目前的一種高效晶硅太陽能電池,具有高開路電壓,高轉換效率,低的溫度系數等諸多優點。圖2為理想異質結太陽能電池的結構示意圖。SHJ電池從上至下依次包括第一絲印銀電極8、第一透明導電層6、磷摻雜的非晶或微晶硅(n型摻雜層)3、第一本征鈍化層2、單晶硅片1、第二本征鈍化層4、硼摻雜的非晶或微晶硅p型摻雜層5、第二透明導電層7、第二絲印銀電極8’。其中,第一絲印銀電極8、第一透明導電層6、磷摻雜的非晶或微晶硅(n型摻雜層)3、第一本征鈍化層2構成電池的第一表面;第二本征鈍化層4、硼摻雜的非晶或微晶硅(p型摻雜層)5、第二透明導電層7、第二絲印銀電極8’構成電池的第二表面。
四層非晶硅層一般由PECVD工藝制備,按照產業化中正常的工藝流程,制備四層非晶硅層的順序為:(1)在單晶硅片1上,制備第一本征鈍化層2;(2)在第一本征鈍化層2上制備磷摻雜的非晶或微晶硅(n型摻雜層)3;(3)在單晶硅片1另一面上制備第二本征鈍化層4;(4)在第二本征鈍化層4上制備硼摻雜的非晶或微晶硅(p型摻雜層)5。
一般情況下,PECVD工藝過程中,硅片放置在托盤上,在沉積過程中,硅片邊緣會繞鍍上4層非晶硅薄膜。由于非晶硅本身的導電性不太好,對電池的影響相對比較小。所以,在目前產業化生產中,還沒有專門在PECVD工藝中使用掩模來防止硅片邊緣繞鍍上非晶硅層。這樣做可以減低工藝和設備復雜性。完成以上四步PECVD工藝,硅片進入下一步工藝,一般為PVD工藝形成透明導電(ITO)層6,7。ITO的導電性較好,工藝中需要采用掩模來防止電池上下電極短路。PVD工藝中采用掩模工藝制備的電池結構示意圖如圖1所示,此結構也示意了目前產業化中常見的電池結構。其中由于在CVD工藝中不使用擋板遮擋,硅片邊緣繞鍍了四層非晶硅層2,3,4,5。這四層非晶硅層覆蓋在硅片側面,以一種不合理的方式堆疊,對于電池的鈍化有負面的影響。
實用新型內容
為了解決現有技術的缺陷,本實用新型提供一種異質結太陽能電池及其制備方法,可減少電池側面復合損失,增強載流子收集功能。
本實用新型一方面提供一種異質結太陽能電池,包括依次層疊的第一透明導電層、第一摻雜層、第一本征鈍化層、單晶硅片、第二本征鈍化層、第二摻雜層、第二透明導電層,其特征在于,所述第一透明導電層進一步覆蓋層疊的所述n型摻雜層、所述第一本征鈍化層和所述單晶硅片的側面;其中,所述單晶硅片為n型時,所述第一摻雜層為n型摻雜層;所述單晶硅片為p型時,所述第一摻雜層為p型摻雜層。
本實用新型另一方面還提供一種異質結太陽能電池,包括依次層疊的第一透明導電層、第一摻雜層、第一本征鈍化層、單晶硅片、第二本征鈍化層、第二摻雜層、第二透明導電層,所述第一透明導電層、所述第一摻雜層、所述第一本征鈍化層進一步覆蓋所述單晶硅片的側面。
根據本實用新型的一實施方式,所述第一摻雜層和所述第二摻雜層導電類型相反,為n型摻雜層或p型摻雜層。
根據本實用新型的另一實施方式,所述n型摻雜層為磷摻雜的非晶硅或微晶硅層;和/或所述p型摻雜層為硼摻雜的非晶硅或微晶硅層。
根據本實用新型的另一實施方式,所述第一透明導電層和第二透明導電層材料包括ITO、AZO或BZO中的至少一種。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





