[實用新型]清除裝置和光刻設備

有效

• 申請號: 201821048400.X
• 申請日: 2018-06-29
• 公開（公告）號: CN208283724U
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發明（設計）人: 吳麗麗
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;B08B5/04
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種清除裝置，其特征在于，所述清除裝置包括：吸附單元和負壓通道；

所述吸附單元面向待清除物的承載面設置于一工件臺表面，所述負壓通道位于所述工件臺內部，所述負壓通道和所述吸附單元連通并向所述吸附單元提供負壓。

2.如權利要求1所述的清除裝置，其特征在于，所述吸附單元為柱體結構，所述吸附單元的中心開設有通孔，所述通孔的孔徑尺寸為1mm～10mm。

3.如權利要求1所述的清除裝置，其特征在于，所述清除裝置還包括存儲單元，所述存儲單元位于所述工件臺內部，所述存儲單元的頂部與所述吸附單元連通，所述存儲單元的側部與所述負壓通道連通。

4.如權利要求3所述的清除裝置，其特征在于，所述清除裝置還包括防污通道，所述防污通道位于所述工件臺內部，所述防污通道一端與所述存儲單元的底部連通，所述防污通道的另一端貫穿到所述工件臺外部，所述防污通道內注入一定量的潔凈液體。

5.如權利要求4所述的清除裝置，其特征在于，所述防污通道傾斜設置在所述工件臺內，所述防污通道與所述存儲單元的底部連通的一端高于貫穿到所述工件臺外部的另一端。

6.如權利要求5所述的清除裝置，其特征在于，所述負壓通道較所述防污通道更加靠近所述吸附單元。

7.如權利要求1～6任一所述的清除裝置，其特征在于，所述清除裝置還包括檢測單元，所述檢測單元面向待清除物的承載面設置在所述工件臺表面。

8.一種包括如權利要求7所述的清除裝置的光刻設備，其特征在于，所述光刻設備還包括：照明單元、掩模臺、投影物鏡、光柵面板、光柵讀頭、浸沒頭以及所述工件臺；

所述浸沒頭在投影物鏡的最后一片鏡片與工件臺上表面之間提供并維持浸液，所述光柵面板位于所述工件臺上方，所述清除裝置面向所述光柵面板設置，用于清除附著在所述光柵面板上的浸液。

9.如權利要求8所述的光刻設備，其特征在于，所述光柵讀頭作為所述檢測單元，所述吸附單元的高度大于所述檢測單元的高度。

10.如權利要求8所述的光刻設備，其特征在于，所述檢測單元包括：激光發射器和激光接收器。

11.如權利要求8所述的光刻設備，其特征在于，所述檢測單元的數量為多個。

12.如權利要求8所述的光刻設備，其特征在于，所述防污通道內注入一定量的浸液。