[實用新型]一種叉指背接觸異質結單晶硅電池有效
| 申請號: | 201821040310.6 | 申請日: | 2018-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN208507687U | 公開(公告)日: | 2019-02-15 |
| 發明(設計)人: | 何鳳琴;盧剛;王海;鄭璐;錢俊;楊振英;王旭輝 | 申請(專利權)人: | 黃河水電光伏產業技術有限公司;青海黃河上游水電開發有限責任公司光伏產業技術分公司;國家電投集團黃河上游水電開發有限責任公司;青海黃河上游水電開發有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/074 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰 |
| 地址: | 810007 青*** | 國省代碼: | 青海;63 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 背接觸 異質結 單晶硅電池 叉指 本實用新型 背面 電池 光電轉換效率 光生載流子 串聯電阻 導電通道 短路電流 非晶硅氧 基體正面 填充因子 轉換效率 場鈍化 光損失 光吸收 合金層 輕摻雜 低阻 減薄 摻雜 | ||
本實用新型公開了一種叉指背接觸異質結單晶硅電池,包括:一N型單晶硅基體,N型單晶硅基體具有相對的一正面和一背面;設于N型單晶硅基體正面的摻雜N+層和正面N型非晶硅層;間隔設于N型單晶硅基體背面的P型非晶硅層和背面N型非晶硅層。本實用新型的叉指背接觸異質結單晶硅電池,減薄常規背接觸異質結N型單晶硅電池正面N型非晶硅層的厚度,并在非晶硅氧合金層下設置輕摻雜的N+層,既可減少N型非晶硅層的光吸收、光損失,又可利用N+層實現部分場鈍化功能,提高了電池的光電轉換效率;同時N+層還可提供光生載流子的橫向低阻導電通道,從而降低串聯電阻損耗,提高電池的短路電流、填充因子和轉換效率。
技術領域
本實用新型涉及太陽能電池技術領域,具體地,涉及一種叉指背接觸異質結單晶硅電池。
背景技術
晶體硅太陽電池具有轉換效率高、工作穩定性好、工作壽命長和制造技術成熟等特點,是目前太陽能光伏市場的主力軍。相對摻硼的P型單晶硅材料,摻磷的N型單晶硅材料中硼含量極低,由硼氧對導致的光致衰減可以忽略,N型硅材料中的一些金屬雜質對少子空穴的捕獲能力低于P型材料中的雜質對少子電子的捕獲能力,在相同摻雜濃度下N型硅比P型硅具有更高的少數載流子壽命。這些特性使得N型硅電池具有潛在的長壽命和高效率的優勢,N型硅電池太陽電池已成為未來高效率晶體硅太陽電池的發展方向。
基于N型單晶硅襯底的叉指背接觸(Interdigitated Back Contact,簡稱IBC)電池,正面沒有任何電極分布,發射極和基極交叉排列于電池背面,分別收集晶體硅光伏效應產生的光生載流子,由于電池正面沒有金屬電極柵線遮擋產生的光學損失,可有效增加電池片的短路電流,提高轉換效率。非晶硅(a-Si:H)/N型單晶硅(c-Si)異質結(Hetero-junction with Intrinsic Thin-layer,簡稱HIT)電池借助本征非晶硅(i-a-Si:H)良好的表面鈍化作用,通過在P型非晶硅或N型非晶硅與單晶硅基底之間插入一層極薄的本征非晶硅,可鈍化單晶硅表面的缺陷,大幅降低界面態和單晶硅的表面復合,從而提高少數載流子壽命,獲得較高的開路電壓。
N型硅背接觸異質結太陽電池(以下簡稱:HIBC電池)是異質結電池和叉指背接觸電池的耦合電池,利用非晶硅優越的表面鈍化性能,并結合IBC結構正面沒有金屬遮擋的結構優勢,兼容了兩種電池的優良特性,具有良好的光學和電學性能,制程溫度低、穩定性好;電池正面無柵線遮光,確保了電池具有高的短路電流(Isc);電池正反兩面均有高質量的氫化非晶硅鈍化層,保證了電池有高的開路電壓(Voc)。
通常,叉指背接觸異質結N型單晶硅電池的正面由內向外采用N型單晶硅基體、本征非晶硅、N型非晶硅、減反射層依次疊加的結構,這種結構的優點是本征非晶硅提供了優異的化學鈍化性能,N型非晶硅實現了場鈍化;缺點是正面光生載流子產生率高,而非晶硅層吸收光產生的光生載流子壽命非常短,難以形成有效的光生電流,從而降低了短路電流密度,造成短波效應下降和光學損失增多;再者,為了減少因非晶硅層的光吸收而引起的電池短路電流密度下降,設計、制造背接觸異質結N型單晶硅電池時必須優化、控制電池正面N型非晶硅和本征非晶硅層的厚度,而又給實現優異鈍化性能以及進一步提升電池的轉換效率帶來困難。
實用新型內容
為解決上述現有技術存在的問題,本實用新型提供了一種叉指背接觸異質結單晶硅電池,以降低現有技術中電池正面的光損失,提高電池的光電轉換效率。
為了達到上述實用新型目的,本實用新型采用了如下的技術方案:
本實用新型提供了一種叉指背接觸異質結單晶硅電池,包括:
一N型單晶硅基體,所述N型單晶硅基體具有相對的一正面和一背面;
設于所述N型單晶硅基體正面的摻雜N+層和正面N型非晶硅層;
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





