[實用新型]一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置有效
| 申請號: | 201821035206.8 | 申請日: | 2018-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN208378408U | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發明(設計)人: | 冀然 | 申請(專利權)人: | 青島天仁微納科技有限責任公司 |
| 主分類號: | B81B1/00 | 分類號: | B81B1/00;B81C1/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 266000 山東省青島市城陽區長城*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 承壓機構 升降機構 微調機構 多層圖像 下壓機構 位移檢測單元 壓力檢測單元 本實用新型 納米材料 壓印裝置 固膠 基板 升降機構頂端 單獨升降 滑動連接 模板托架 納米結構 電連接 對準套 底端 壓印 印膠 有壓 涂抹 應用 升降 | ||
本實用新型公開了一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置,包括機架、控制單元,模板,在模板外側固定有模板托架,在模板底部設有納米結構;下壓機構,設于模板上方并與機架滑動連接;承壓機構,設于模板下方,承壓機構上設有基板,基板上涂抹有壓印膠;固膠單元;壓力檢測單元,安裝于下壓機構上;位移檢測單元,固定于模板上;多個升降機構及微調機構,微調機構設于升降機構頂端與升降機構連接,微調機構設于承壓機構底端并與承壓機構固定,升降機構可同時升降或單獨升降;下壓機構、固膠單元、壓力檢測單元、位移檢測單元、升降機構以及微調機構均與控制單元電連接。本實用新型可以實現多層圖像對準套刻壓印且效率高。
技術領域
本實用新型涉及納米壓印技術領域,尤其涉及一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置。
背景技術
納米壓印技術是一種新型的微納加工技術。是通過光刻膠輔助,將模板上的微納結構轉移到待加工材料上的技術。該技術通過機械轉移的手段,達到了超高的分辨率,有望在未來取代傳統光刻技術,成為微電子、材料領域的重要加工手段。目前的納米壓印設備僅能實現單一圖層的均勻壓印功能,對于多層圖像需要對準套刻壓印的工藝,無法實現其功能。
發明內容
為解決上述存在的問題,本實用新型提供一種可以實現多層圖像對準套刻壓印且效率高的應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置。
本實用新型解決上述技術問題采用的技術方案為:一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置,包括機架、控制單元,
模板,模板為透明質模板,在模板外側固定有模板托架,模板托架與機架固定,在模板底部設有納米結構;
下壓機構,設于模板上方并與機架滑動連接,用于壓緊模板;
承壓機構,設于模板下方,承壓機構上設有基板,基板上涂抹有壓印膠,基板與模板配合完成壓印;
固膠單元,對壓印膠進行固化,將納米結構固定在基板上;
壓力檢測單元,安裝于下壓機構上,用于檢測下壓機構與模板之間壓力狀態并將壓力信息反饋給控制單元;
位移檢測單元,固定于模板托架上,用于檢測模板與承壓機構之間位移狀態并將位移量反饋給控制單元;
多個升降機構及微調機構,微調機構設于升降機構頂端與升降機構連接,微調機構設于承壓機構底端并與承壓機構固定的,升降機構可同時升降或單獨升降;
下壓機構、固膠單元、壓力檢測單元、位移檢測單元、升降機構以及微調機構均與控制單元電連接。
上述的一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置,所述下壓機構包括與機架滑動連接的托臺,所述托臺中間固定有透明的加壓板,還包括與托臺連接的、可驅動托臺上下移動的直驅式伺服電機缸。
上述的一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置,固膠單元設于加壓板上,固膠單元為可透過模板及加壓板的紫外線照射燈,壓印膠采用紫外線固化壓印膠。
上述的一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置,所述承壓機構包括承壓板,基板設于承壓板中間位置,在承壓板側面固定有三塊支撐板,所述支撐板上設有凹槽,微調機構設于承壓板下方并與承壓板連接。
上述的一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置,所述固膠單元設于承壓板上,并設置在基板正下方,所述固膠單元為加熱器,壓印膠采用熱固化壓印膠。
上述的一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置,壓力檢測單元為具有檢測頭的壓力傳感器。
上述的一種應用于納米材料上多層圖像的均勻壓印裝置,位移檢測單元為具有檢測頭的直線位移傳感器,直線位移傳感器上的檢測頭與支撐板上的凹槽適配。
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