[實(shí)用新型]指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821033323.0 | 申請日: | 2018-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN209172315U | 公開(公告)日: | 2019-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 糜忠良;李瑋;梁彥林;高暢;劉文斌;樓林根;洪灝 | 申請(專利權(quán))人: | 上海市公安局物證鑒定中心;上海凌鷗光電有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/1172 | 分類號: | A61B5/1172 |
| 代理公司: | 上海海鈞知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31330 | 代理人: | 陳劍 |
| 地址: | 200042 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 靶材固定裝置 指紋 鍍膜 沉積物 蒸發(fā) 顯現(xiàn)設(shè)備 載物臺 手印 靶材 鍍層 負(fù)壓 腔室 客體 紋線 電弧放電技術(shù) 本實(shí)用新型 抽真空系統(tǒng) 電場 電源負(fù)極 電源正極 發(fā)射電極 加速作用 客體表面 應(yīng)用氣體 蒸發(fā)物質(zhì) 電離 抽氣口 大電流 低電壓 可開合 放電 吸附 顯影 載物 磁場 反差 室內(nèi) 遺留 | ||
1.一種指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,包括可開合的腔室,腔室內(nèi)設(shè)有載物臺,載物臺上方設(shè)有鍍膜靶材固定裝置,鍍膜靶材固定裝置與載物臺位于電源正極和電源負(fù)極之間;鍍膜靶材固定裝置設(shè)有形成磁場的發(fā)射電極;腔室設(shè)有連接抽真空系統(tǒng)的抽氣口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述腔室為圓柱形腔室。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備還包括真空泵,真空泵抽泣端連通腔室的抽氣口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備還包括冷卻設(shè)備,所述冷卻設(shè)備可以是冷卻介質(zhì)管道,冷卻介質(zhì)管道設(shè)有進(jìn)出口,用于連接外部冷卻介質(zhì)源;
或者,所述指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備包括冷卻介質(zhì)源存儲箱、冷卻介質(zhì)泵,冷卻介質(zhì)管道連通冷卻介質(zhì)源存儲箱形成循環(huán)系統(tǒng),冷卻介質(zhì)泵位于冷卻介質(zhì)管道上、或冷卻介質(zhì)管道與冷卻介質(zhì)源存儲箱連接處、或冷卻介質(zhì)源存儲箱內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述鍍膜靶材固定裝置設(shè)有至少三個鍍膜靶材固定位。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述鍍膜靶材固定裝置設(shè)有位置調(diào)整裝置,用于調(diào)整鍍膜靶材固定位的更換。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述載物臺為可旋轉(zhuǎn)載物臺。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述載物臺包括本體和物證放置臺面,物證放置臺面位于本體的頂部,本體頂部與物證放置臺面之間設(shè)有滑輪軌道,物證放置臺通過滑輪軌道可從本體拉出。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述載物臺包括凸起的載物柱,所述載物柱表面設(shè)有可拆卸的懸掛工具。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的指紋負(fù)壓鍍層顯現(xiàn)設(shè)備,其特征在于,所述載物臺包括凸起的載物柱,所述載物柱為可變直徑的柱體。
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