[實(shí)用新型]一種電流導(dǎo)引型VCSEL有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821030368.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208272356U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王智勇;周廣正;李穎;蘭天 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01S5/183 | 分類(lèi)號(hào): | H01S5/183;H01S5/187;H01S5/323;H01S5/343 |
| 代理公司: | 北京思海天達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203 | 代理人: | 張立改 |
| 地址: | 100124 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 質(zhì)子 電流導(dǎo)引型 柵格結(jié)構(gòu) 單橫模 半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域 多量子阱發(fā)光區(qū) 高斯分布 上限制層 下限制層 一次外延 光增益 導(dǎo)電 襯底 柵格 遞減 匹配 兩邊 | ||
1.一種電流導(dǎo)引型VCSEL,其特征在于,自下而上依次包括一導(dǎo)電GaAs襯底、n型GaAs緩沖層、n型AlGaAs/AlAs的DBR、AlGaAs下限制層、多量子阱發(fā)光區(qū)、AlGaAs上限制層;在AlGaAs上限制層為一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR和質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)交叉間隔排列組合;在一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR和質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)交叉間隔排列組合上依次為二次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR、p型GaAs歐姆接觸層;在導(dǎo)電GaAs襯底的背面設(shè)有n面電極,在p型GaAs歐姆接觸層上設(shè)有p面電極。
2.按照權(quán)利要求1所述的一種電流導(dǎo)引型VCSEL,其特征在于,一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR和質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)交叉間隔排列組合方案中,一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR:DBR是由3-5對(duì)λ0/4光學(xué)厚度的Al0.12Ga0.88As/AlAs構(gòu)成。
3.按照權(quán)利要求2所述的一種電流導(dǎo)引型VCSEL,其特征在于,DBR的摻雜濃度為1E18-3E18cm-3。
4.按照權(quán)利要求1所述的一種電流導(dǎo)引型VCSEL,其特征在于,一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR和質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)均為圓環(huán)結(jié)構(gòu),上述一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR和質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)交叉間隔排列組合方案中,中心為一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR圓,向外依次為質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)圓環(huán)和一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR圓環(huán)交叉間隔排列,且最外環(huán)為質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)。
5.按照權(quán)利要求1所述的一種電流導(dǎo)引型VCSEL,其特征在于,一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR和質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)交叉間隔排列組合方案中的質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu),質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)包含3-5對(duì)DBR厚度。
6.按照權(quán)利要求1所述的一種電流導(dǎo)引型VCSEL,其特征在于,一次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR和質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)交叉間隔排列組合方案中的質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu),多個(gè)質(zhì)子注入柵格結(jié)構(gòu)的排列,質(zhì)子注入柵格寬度由中心向兩邊逐漸遞減。
7.按照權(quán)利要求1所述的一種電流導(dǎo)引型VCSEL,其特征在于,二次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR,DBR是由16-18對(duì)λ0/4光學(xué)厚度的Al0.12Ga0.88As/AlAs構(gòu)成。
8.按照權(quán)利要求7所述的一種電流導(dǎo)引型VCSEL,其特征在于,二次外延p型AlGaAs/AlAs的DBR,摻雜濃度為2E18cm-3。
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