[實用新型]一種用于旋涂機的主軸

有效

• 申請號: 201821028748.2
• 申請日: 2018-07-02
• 公開（公告）號: CN208592025U
• 公開（公告）日: 2019-03-12
• 發明（設計）人: 肖春龍;苗福喜;緱玉棟;陳勝章;蘆志方;郭建軍;陳瑞敏
• 申請（專利權）人: 安陽華安通用主軸科技有限公司
• 主分類號: B05C11/08
• 分類號: B05C11/08
• 代理公司: 安陽市智浩專利代理事務所(普通合伙) 41116
• 代理人: 張智和

一種用于旋涂機的主軸，屬于旋涂機主軸領域，所述轉子軸內設置有通孔，主軸內設置有水冷套，轉子和定子兩端分別設置有兩個和兩個以上軸承，主軸上部設置有防水蓋，主軸末端設置有編碼器，所述主軸的轉速在0.2?1000轉/分，所述主軸的外圓跳動≤0.003mm、端面跳動≤0.003mm，通過利用本實用新型能夠提高大型基板的涂膠均勻度，可減少膠液的浪費，提高膠液旋涂的穩定性。

技術領域

本實用新型涉及一種主軸，特別涉及一種用于旋涂機的主軸，屬于旋涂機主軸領域。

背景技術

旋涂機是半導體、光盤、有機EL顯示器、液晶顯示器以及核聚變領域多廣泛應用的一種設備，是將膠液按照一定的流量滴在水平設置的基板上，利用旋轉的方式在基板表面形成一層均勻均勻的膠層，然后根據需要進行相應的工藝處理。以半導體方面的光刻膠為例，涂覆光刻膠負膠后利用顯影、曝光等光刻方式在半導體基板光刻膠表面形成圖形，然后在光刻膠圖形上進行濺射、CVD、PVD等工藝處理，形成相應的圖形，最后再剝離光刻膠，在基板表面留下所需的電路圖形。

半導體、光盤等是在較小的基板上進行涂膠的，在液晶基板等大型化的基板上進行涂膠時，如果利用旋轉涂膠方式進行涂膠，需要在大型基板上利用較慢的速度進行旋轉，利用離心力將膠從中心位置逐步擴展到周邊位置，涂覆時，如果速度過快，就會出現膠液的浪費，厚度的不均，因此，要求旋涂機具有相當高的平面度、還要求很慢的旋轉速度，這就要求旋涂機主軸具有相當高的平穩性。

發明內容

針對大型基板旋涂機對主軸平穩性要求，本實用新型提供一種用于旋涂機的主軸，其目的是提高主軸的平穩性，具有低速運轉的穩定性，減少膠液的浪費，滿足大型基板在涂膠過程中能夠得到均勻的膜厚。

本實用新型的技術方案是：一種用于旋涂機的主軸，包括設置在主軸殼體內周的定子、設置在轉子軸外周的轉子，所述轉子軸內設置有通孔，主軸內設置有水冷套，轉子和定子兩端分別設置有多個軸承，主軸全部設置有防水蓋，主軸末端設置有編碼器，所述主軸的轉速在0.2-1000轉/分，所述主軸的外圓跳動≤0.003mm、端面跳動≤0.003mm；

進一步，所述主軸末端設置有進水孔、出水孔、主軸電源線口和編碼器出線口；

進一步，所述主軸使用時垂直向上，主軸向上端面上設置有工作臺，主軸端面上設置有工作臺連接絲孔。

本實用新型具有的積極效果是，通過在旋涂機的主軸內設置水冷套，能夠保證主軸子設定溫度下進行運轉，可防止由于溫度變化帶來主軸的相關參數變化，防止因溫度變化引起制造產品過程中帶來的不合格；通過在轉子和定子兩端分別設置有兩個和兩個以上軸承，可提高主軸的負荷承載能力；通過將主軸的轉速設置在0.2-1000轉/分，主軸的外圓跳動≤0.003mm、端面跳動≤0.003mm，能夠保證主軸的運轉速度，特別是能夠保證主軸的低速運轉能力，可防止在涂膠過程中膠液的浪費，能夠提高膠液的利用率，保證涂膠厚度的均勻度；通過在主軸上設置編碼器，能夠對主軸的轉速進行監控，也可利用編碼器與伺服驅動器控制系統配合進行C軸插補。通過利用本實用新型能夠提高大型基板的涂膠均勻度，可減少膠液的浪費，提高膠液旋涂的穩定性。

附圖說明

圖1本實用新型的剖面結構示意圖。

圖2主軸末端面的仰視示意圖。

圖3主軸上端面的俯視示意圖。

標號說明：10-殼體、11-轉子軸、12a-定子、12b-轉子、12c-線包、13a-上端軸承、13b-下端軸承、14-水冷套、15-通孔、16-編碼器、17-防水蓋、18-后蓋、19-冷卻水水管接頭、21-進水孔、22-出水孔、23-電源出線口、24-編碼器出線口、25-工作臺連接絲孔。

具體實施方式