[實(shí)用新型]一種氣化爐

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821011570.0
• 申請(qǐng)日: 2018-06-28
• 公開（公告）號(hào): CN208776663U
• 公開（公告）日: 2019-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 景旭亮;馬志超;方科學(xué);王奕唯;周三
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 新奧科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): C10G1/06
• 分類號(hào): C10G1/06;C10L3/08
• 代理公司: 北京工信聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11266
• 代理人: 劉翔

1.一種氣化爐，其特征在于，包括：爐體（1）、反應(yīng)內(nèi)筒（2）以及環(huán)套筒（3）；其中，

所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）設(shè)置在所述爐體（1）內(nèi)，用于將所述爐體（1）內(nèi)部的空間分割成上部連通的內(nèi)部加氫氣化區(qū)（11）和外部區(qū)域（12）；

所述環(huán)套筒（3）設(shè)置所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）與所述爐體（1）的側(cè)壁之間，用于將所述外部區(qū)域（12）分割成上部和下部均連通的內(nèi)部半焦落料區(qū)（121）和外部半焦氣化區(qū)（122）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣化爐，其特征在于，所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）的底端與所述爐體（1）的底部相連、上端為自由端。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣化爐，其特征在于，所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）的高度與其直徑的比值大于或等于五。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣化爐，其特征在于，所述環(huán)套筒（3）套設(shè)在所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）的外側(cè)、并通過連接件（31）分別與所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）和所述爐體（1）的內(nèi)壁相連，其上下兩端均為自由端。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣化爐，其特征在于，所述環(huán)套筒（3）的高度低于所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）的高度。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣化爐，其特征在于，所述環(huán)套筒（3）的高度為所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）高度的1/2-4/5。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣化爐，其特征在于，所述環(huán)套筒（3）底端與所述爐體（1）底端之間的預(yù)設(shè)間距小于所述環(huán)套筒（3）與所述爐體（1）側(cè)壁之間的距離。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣化爐，其特征在于，所述環(huán)套筒（3）底端與所述爐體（1）底端之間的預(yù)設(shè)間距為其與所述爐體（1）側(cè)壁之間距離的1/4-3/4。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣化爐，其特征在于，所述爐體（1）底部設(shè)置有分別與所述加氫氣化區(qū)（11）、所述半焦落料區(qū)（121）以及半焦氣化區(qū)（122）相對(duì)應(yīng)的加氫噴嘴（14）、吹送氣入口（15）以及氣化劑噴嘴（16）。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的氣化爐，其特征在于，所述氣化劑噴嘴（16）和所述吹送氣入口（15）均沿所述爐體（1）底部呈環(huán)形分布。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣化爐，其特征在于，相鄰所述氣化劑噴嘴（16）的間距小于或等于所述環(huán)套筒（3）與所述爐體（1）側(cè)壁之間距離的1/2，相鄰所述吹送氣入口（15）的間距小于或等于所述反應(yīng)內(nèi)筒（2）與所述環(huán)套筒（3）側(cè)壁之間距離的1/2。