[實(shí)用新型]一種離型膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821008551.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208562224U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許顯成;王亮亮;巫科;范興寶 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 四川羽璽新材料股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C09J7/40 | 分類(lèi)號(hào): | C09J7/40 |
| 代理公司: | 成都弘毅天承知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51230 | 代理人: | 蔣秀清;李春芳 |
| 地址: | 642150 四川*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離型層 離型膜 上表面 有機(jī)硅離型劑 保護(hù)膜 基材層 膠帶 貼合 剝離 紫外光輻射能 本實(shí)用新型 紫外光照射 離型力 下表面 自由基 模切 涂覆 脫離 吸收 保證 | ||
一種離型膜,包括基材層和離型層,所述離型層為有機(jī)硅離型劑層,所述離型層包括第一離型層和第二離型層,第一離型層的下表面與基材層的上表面貼合,第一離型層的上表面涂覆有DMPA層,DMPA層的上表面與第二離型層貼合。本實(shí)用新型將離型層設(shè)計(jì)為第一離型層和第二離型層,并在第一離型層和第二離型層之間設(shè)置DMPA層,一方面保證離型膜在膠帶或保護(hù)膜的模切過(guò)程中不會(huì)脫離、翹開(kāi),另一方面,當(dāng)需要?jiǎng)冸x離型膜時(shí),使用紫外光照射,DMPA吸收紫外光輻射能而形成自由基,從而引發(fā)有機(jī)硅離型劑再次反應(yīng),離型力降低,易于剝離,避免膠帶或保護(hù)膜損壞。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種用于保護(hù)膠材的膜材料,具體涉及一種離型膜。
背景技術(shù)
離型膜是指表面具有分離性的薄膜,離型膜與特定的材料在有限的條件下接觸后不具有粘性,或輕微的粘性,通常情況下為了增加薄膜的離型力,會(huì)將塑料薄膜做等離子處理,或涂氟處理,或?qū)⒐桦x型劑涂于薄膜材質(zhì)的表層上,如PET、PE、OPP等,讓它對(duì)于各種不同的有機(jī)壓感膠可以表現(xiàn)出極輕且穩(wěn)定的離型力。
常規(guī)的膠帶及保護(hù)膜,產(chǎn)品結(jié)構(gòu)中均需要用到離型膜。在膠帶或者保護(hù)膜實(shí)際的使用過(guò)程中,離型膜對(duì)膠帶或保護(hù)膜產(chǎn)品起著保護(hù)作用,同時(shí)也使膠帶或者保護(hù)膜更便于加工和使用。隨著手機(jī)零部件的日益精細(xì)化、集成化,膠帶及保護(hù)膜的模切精度要求也越來(lái)越高,這就要求離型膜的離型力要足夠低,同時(shí)不能有明顯的剝離靜電,才能避免在離型膜剝離的過(guò)程中,損壞模切后極精細(xì)的膠帶或者保護(hù)膜。但離型膜的離型力過(guò)低,在模切過(guò)程中又會(huì)導(dǎo)致離型膜脫離、翹開(kāi)等,無(wú)法對(duì)產(chǎn)品起到有效保護(hù)的作用。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種離型膜,該離型膜在模切時(shí),可確保一定的剝離強(qiáng)度,避免離型膜脫離、翹開(kāi)。在需要?jiǎng)冸x時(shí),通過(guò)紫外照射,使離型力降低,從而易于剝離。
本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:
一種離型膜,包括基材層和離型層,所述離型層為有機(jī)硅離型劑層,所述離型層包括第一離型層和第二離型層,第一離型層的下表面與基材層的上表面貼合,第一離型層的上表面涂覆有DMPA層,DMPA層的上表面與第二離型層貼合。
DMPA為651光引發(fā)劑的簡(jiǎn)稱(chēng),又稱(chēng)為苯偶酰雙甲醚,對(duì)光敏感,光照后可引發(fā)有機(jī)硅離型劑再次反應(yīng)。本發(fā)明在第一離型層和第二離型層之間設(shè)置DMPA層,其離型力較高,可保證離型膜在膠帶或保護(hù)膜的模切過(guò)程中不會(huì)脫離、翹開(kāi),當(dāng)需要?jiǎng)冸x離型膜時(shí),使用紫外光照射,DMPA吸收紫外光輻射能而形成自由基,從而引發(fā)有機(jī)硅離型劑再次反應(yīng),即,有機(jī)硅離型劑繼續(xù)固化,使離型力降低,易于剝離,并且避免膠帶或保護(hù)膜損壞。
所述第一離型層的下表面涂覆有DMPA層,增設(shè)一層DMPA層,使得光照后產(chǎn)生的自由基增多,有利于加速有機(jī)硅離型劑反應(yīng),從而達(dá)到迅速降低離型力的目的。
所述基材層和第一離型層之間設(shè)置有抗靜電層,使得離型膜具備抗靜電效果,剝離時(shí)不會(huì)產(chǎn)生吸附粘連。
所述抗靜電層為聚噻吩型高分子導(dǎo)電層。
所述基材層為PET層。
綜上所述,由于采用了上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型的有益效果是:
1.本實(shí)用新型將離型層設(shè)計(jì)為第一離型層和第二離型層,并在第一離型層和第二離型層之間設(shè)置DMPA層,一方面保證離型膜在膠帶或保護(hù)膜的模切過(guò)程中不會(huì)脫離、翹開(kāi),另一方面,當(dāng)需要?jiǎng)冸x離型膜時(shí),使用紫外光照射,DMPA吸收紫外光輻射能而形成自由基,從而引發(fā)有機(jī)硅離型劑再次反應(yīng),離型力降低,易于剝離,避免膠帶或保護(hù)膜損壞;
2.本實(shí)用新型通過(guò)在基材層和第一離型層之間設(shè)置抗靜電層,使得離型膜剝離時(shí)不會(huì)產(chǎn)生吸附粘連。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于四川羽璽新材料股份有限公司,未經(jīng)四川羽璽新材料股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821008551.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:抗靜電亞克力保護(hù)膜
- 下一篇:具有金油層的防偽膠帶





