[實(shí)用新型]基板處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821008227.0 | 申請(qǐng)日： | 2018-06-28 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN209319538U | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-08-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 金鐘千 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 凱斯科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | B24B37/013 | 分類(lèi)號(hào)： | B24B37/013;B24B37/34;B24B49/04;B24B49/12 |
| 代理公司： | 北京冠和權(quán)律師事務(wù)所 11399 | 代理人： | 朱健;張國(guó)香 |
| 地址： | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼： | 韓國(guó);KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基板處理裝置 研磨層 厚度傳感器 研磨墊 本實(shí)用新型 厚度監(jiān)控 厚度信息 基板研磨 接收基板 形態(tài)配置 旋轉(zhuǎn)一周 隔開(kāi) 基板 檢測(cè) | ||
1.一種基板處理裝置，其包括：
研磨平板，其在基板的研磨工藝中以旋轉(zhuǎn)軸為中心進(jìn)行自轉(zhuǎn)，研磨墊覆蓋在研磨平板上面；
研磨頭，其在所述研磨工藝中位于所述基板的上側(cè)并使得所述基板以與所述研磨墊相接觸的形式設(shè)置；
多個(gè)厚度傳感器，其包括第一厚度傳感器及第二厚度傳感器，第一厚度傳感器及第二厚度傳感器設(shè)置于所述研磨平板，與所述研磨平板一起沿著通過(guò)所述基板的下側(cè)的軌跡旋轉(zhuǎn)，同時(shí)接收照射至所述基板的研磨層的反射光并沿著圓周方向隔開(kāi)配置；
第一檢測(cè)器，其基于從所述第一厚度傳感器接收到的第一反射光而獲得所述基板的研磨層厚度信息；
第二檢測(cè)器，其與所述第一檢測(cè)器分離，基于從所述第二厚度傳感器接收到的第二反射光而獲得所述基板的研磨層厚度信息。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
包括所述第一厚度傳感器和所述第二厚度傳感器的所述多個(gè)厚度傳感器沿著所述研磨墊的圓周方向以間隔相同的距離的形式隔開(kāi)配置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述多個(gè)厚度傳感器沿著所述研磨墊的圓周方向以間隔180度、120度、90度、72度、60度中任意一個(gè)的形式隔開(kāi)配置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
包括所述第一厚度傳感器和所述第二厚度傳感器的所述多個(gè)厚度傳感器從所述研磨墊的旋轉(zhuǎn)中心沿著半徑方向以間隔相同的距離的形式隔開(kāi)配置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述第一反射光和所述第二反射光是分別從第一光源和第二光源照射具有相互不同的光譜的光并在所述基板反射的反射光。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，
兩個(gè)以上的所述第一厚度傳感器組合起來(lái)從而形成第一組厚度傳感器，兩個(gè)以上的所述第二厚度傳感器組合起來(lái)從而形成第二組厚度傳感器，所述厚度傳感器是由多個(gè)組構(gòu)成的厚度傳感器組；
所述第一檢測(cè)器基于從所述第一組厚度傳感器接收到的第一反射光來(lái)檢測(cè)所述基板的研磨層厚度，所述第二檢測(cè)器基于從所述第二組厚度傳感器接收到的第二反射光來(lái)檢測(cè)所述基板的研磨層厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，
包括所述第一組厚度傳感器和所述第二組厚度傳感器的所述由多個(gè)組構(gòu)成的厚度傳感器組沿著所述研磨墊的圓周方向以相互間隔相同距離的形式隔開(kāi)配置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述由多個(gè)組構(gòu)成的所述厚度傳感器組沿著所述研磨墊的圓周方向以間隔180度、120度、90度、72度、60度中任意一個(gè)的形式隔開(kāi)配置。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述第一組厚度傳感器和所述第二組厚度傳感器從所述研磨墊的旋轉(zhuǎn)中心沿著半徑方向以間隔相同的距離的形式隔開(kāi)配置。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，
包括所述第一組厚度傳感器和所述第二組厚度傳感器的所述厚度傳感器組所接收到的各個(gè)接收信號(hào)是從所述基板反射的反射光。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，
所述第一組厚度傳感器接收到的所述第一反射光和所述第二組厚度傳感器接收到的所述第二反射光是分別從第一光源和第二光源照射的具有相互不同的光譜的光在所述基板反射的反射光。
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