[實用新型]一種沉頭式大理石拋光盤有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821001836.3 | 申請日： | 2018-06-27 |
| 公開（公告）號： | CN208451255U | 公開（公告）日： | 2019-02-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 毛衛(wèi)平;楊明洋;廖品生 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞市蘭光光學(xué)科技有限公司 |
| 主分類號： | B24B13/01 | 分類號： | B24B13/01 |
| 代理公司： | 廣東莞信律師事務(wù)所 44332 | 代理人： | 蔡邦華 |
| 地址： | 523000 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 大理石 拋光盤 本實用新型 接頭結(jié)構(gòu) 下平面 拋光 沉頭 面形 聚氨酯拋光墊 光學(xué)元件 受力均衡 均勻性 螺絲鎖 上平面 重心 | ||
本實用新型公開一種沉頭式大理石拋光盤，包括大理石盤，大理石盤的上平面設(shè)有聚氨酯拋光墊，大理石盤下平面中部設(shè)有沉頭接頭結(jié)構(gòu)，沉頭接頭結(jié)構(gòu)通過M8螺絲鎖緊在大理石盤的下平面中部。本實用新型采用了沉頭式設(shè)計可降低拋光盤的重心，在受力均衡的同時，提高拋光面形的穩(wěn)定性，保障面形的均勻性；有效提高光學(xué)元件在拋光時的成品質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及光學(xué)元件拋光的工具，特別涉及一種沉頭式大理石拋光盤。
背景技術(shù)
光學(xué)元件在制作過程中，拋光是非常重要的過程，由于光學(xué)元件拋光時要求平面的均勻性非常高，需要在拋光時放置在一個受力均衡性很好的拋光盤上進(jìn)行。目前，現(xiàn)有的拋光盤達(dá)不到這種高均勻性的要求。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種沉頭式大理石拋光盤。
為解決現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，本實用新型提供的技術(shù)方案是：一種沉頭式大理石拋光盤，包括大理石盤，所述大理石盤的上平面設(shè)有聚氨酯拋光墊，所述大理石盤下平面中部設(shè)有沉頭接頭結(jié)構(gòu)，所述沉頭接頭結(jié)構(gòu)通過M8螺絲鎖緊在所述大理石盤的下平面中部。
作為本實用新型沉頭式大理石拋光盤的一種改進(jìn)，所述沉頭接頭結(jié)構(gòu)包括沉頭接頭，所述沉頭接頭的中部設(shè)有一中間通孔，所述沉頭接頭上間隔設(shè)有四個沉頭螺孔，所述M8螺絲從所述沉頭螺孔穿入鎖緊在所述大理石盤的下平面。
作為本實用新型沉頭式大理石拋光盤的一種改進(jìn)，所述聚氨酯拋光墊的表面間隔設(shè)有多條橫縱交錯的凹槽。
作為本實用新型沉頭式大理石拋光盤的一種改進(jìn)，所述聚氨酯拋光墊的邊緣包裹在所述大理石盤的邊緣上，所述聚氨酯拋光墊的邊緣設(shè)有一臺階。
作為本實用新型沉頭式大理石拋光盤的一種改進(jìn)，所述大理石盤的底部設(shè)有兩個對應(yīng)的把手，所述把手的兩端傾斜彎折，形成兩個安裝部，兩個安裝部通過螺絲連接在所述大理石盤的底部。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的優(yōu)點是：本實用新型采用了沉頭式設(shè)計可降低拋光盤的重心，在受力均衡的同時，提高拋光面形的穩(wěn)定性，保障面形的均勻性；有效提高光學(xué)元件在拋光時的成品質(zhì)量。
附圖說明
下面就根據(jù)附圖和具體實施方式對本實用新型及其有益的技術(shù)效果作進(jìn)一步詳細(xì)的描述，其中：
圖1是本實用新型立體結(jié)構(gòu)圖。
圖2是本實用新型底部結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記名稱：1、大理石盤 2、聚氨酯拋光墊 3、沉頭接頭結(jié)構(gòu) 4、凹槽 5、臺階6、把手 7、安裝部 31、沉頭接頭 32、中間通孔 33、沉頭螺孔。
具體實施方式
下面就根據(jù)附圖和具體實施例對本實用新型作進(jìn)一步描述，但本實用新型的實施方式不局限于此。
如圖1和圖2所示，一種沉頭式大理石拋光盤，包括大理石盤1，大理石盤1的上平面設(shè)有聚氨酯拋光墊2，大理石盤1下平面中部設(shè)有沉頭接頭3結(jié)構(gòu)，沉頭接頭結(jié)構(gòu)3通過M8螺絲鎖緊在大理石盤1的下平面中部。
優(yōu)選的，沉頭接頭結(jié)構(gòu)3包括沉頭接頭31，沉頭接頭31的中部設(shè)有一中間通孔32，沉頭接頭31上間隔設(shè)有四個沉頭螺孔33，M8螺絲從沉頭螺孔33穿入鎖緊在大理石盤1的下平面。
優(yōu)選的，聚氨酯拋光墊2的表面間隔設(shè)有多條橫縱交錯的凹槽4。凹槽4用于容納吸附水，光學(xué)元件加工過程中，可以通過吸附拋光液吸附在聚氨酯拋光墊2的表面，均勻添加拋光液并對光學(xué)元件表面實行快速冷卻。
優(yōu)選的，聚氨酯拋光墊2的邊緣包裹在大理石盤1的邊緣上，聚氨酯拋光墊2的邊緣設(shè)有一臺階5。
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