[實用新型]溫度穩(wěn)定光譜儀有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820956796.1 | 申請日： | 2018-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN208313433U | 公開（公告）日： | 2019-01-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 埃德加·吉尼奧;周星 | 申請（專利權(quán)）人： | 昆山明視測量系統(tǒng)有限公司 |
| 主分類號： | G01J3/28 | 分類號： | G01J3/28;G01J3/02 |
| 代理公司： | 蘇州謹和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 唐靜芳 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市昆山開發(fā)區(qū)前*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 陣列探測器 光譜儀 光柵元件 溫度穩(wěn)定 入射狹縫 基底 距離恒定 支架 讀取 本實用新型 光線通過 機械方式 溫度補償 溫度區(qū)間 支架固定 主動控制 衍射 照射 應(yīng)用 轉(zhuǎn)化 | ||
1.一種溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，包括外殼、光柵元件、陣列探測器、支架以及至少一個補償基底，所述光柵元件、陣列探測器、支架和補償基底設(shè)置在所述外殼內(nèi)，所述陣列探測器通過所述支架固定在所述外殼內(nèi)，所述溫度穩(wěn)定光譜儀還包括入射狹縫，所述補償基底使所述光柵元件與所述入射狹縫之間的距離恒定、所述光柵元件與所述陣列探測器之間的距離恒定；光線通過所述入射狹縫進入所述外殼，照射到所述光柵元件上后進行衍射，然后通過所述陣列探測器進行讀取和轉(zhuǎn)化。
2.如權(quán)利要求1所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，所述補償基底的熱膨脹系數(shù)大于所述外殼的熱膨脹系數(shù)。
3.如權(quán)利要求2所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，所述入射狹縫設(shè)置在所述外殼上，或者，所述入射狹縫設(shè)置在外接SMA光纖連接器上。
4.如權(quán)利要求3所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，所述外殼內(nèi)設(shè)有一個所述補償基底，所述光柵元件設(shè)置在所述補償基底上。
5.如權(quán)利要求3所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，所述外殼內(nèi)設(shè)有第一補償基底和第二補償基底，所述入射狹縫設(shè)置在所述第一補償基底上，所述陣列探測器設(shè)置在所述第二補償基底上。
6.如權(quán)利要求5所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，所述外殼內(nèi)還設(shè)有第三補償基底，所述光柵元件設(shè)置在所述第三補償基底上。
7.如權(quán)利要求2所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在與，所述外殼由鋁材料制成。
8.如權(quán)利要求7所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，所述補償基底由聚甲醛材料制成。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，所述光柵元件為平場型凹面光柵，所述光柵元件的焦曲線為直線。
10.如權(quán)利要求9所述的溫度穩(wěn)定光譜儀，其特征在于，所述陣列探測器為CCD傳感器陣列或CMOS光電傳感器陣列，所述陣列探測器中設(shè)有光敏線性元件，所述光敏線性元件與所述焦曲線重合。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昆山明視測量系統(tǒng)有限公司，未經(jīng)昆山明視測量系統(tǒng)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820956796.1/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
