[實用新型]光刻機臺供水設(shè)備、涂膠顯影機和光刻機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820919744.7
• 申請日: 2018-06-14
• 公開（公告）號: CN208444135U
• 公開（公告）日: 2019-01-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙鵬;徐猛;古哲安;黃志凱;葉日銓
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42;G03F7/16;G03F7/30;G03F7/20
• 代理公司: 上海立群專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31291
• 代理人: 楊楷;毛立群

1.一種光刻機臺供水設(shè)備，包括供水管路，其被配置為向顯影后的晶圓表面提供去離子水，其特征在于，還包括與所述供水管路連接的溶氣裝置以及向所述溶氣裝置中通入氣體的供氣管路，經(jīng)過所述溶氣裝置的去離子水與由所述供氣管路通入的氣體發(fā)生接觸。

2.如權(quán)利要求1所述的光刻機臺供水設(shè)備，其特征在于，由所述供氣管路通入的氣體為二氧化碳氣體。

3.如權(quán)利要求2所述的光刻機臺供水設(shè)備，其特征在于，經(jīng)過所述溶氣裝置后流出的溶有二氧化碳的去離子水，其pH值為5～6。

4.如權(quán)利要求1所述的光刻機臺供水設(shè)備，其特征在于，所述溶氣裝置包括與所述供水管路連通的進水口和出水口、與所述供氣管路連通的溶氣腔體以及設(shè)置于所述溶氣腔體內(nèi)的多根膜管，所述膜管采用防水透氣膜材料制得，其兩端分別與所述進水口和所述出水口連通。

5.如權(quán)利要求4所述的光刻機臺供水設(shè)備，其特征在于，所述多根膜管為相互平行地設(shè)置的直管。

6.如權(quán)利要求4所述的光刻機臺供水設(shè)備，其特征在于，所述供氣管路具有閥門，所述溶氣裝置沿所述供水管路的下游設(shè)置有pH計，所述閥門根據(jù)所述pH計測得的去離子水pH值大小而調(diào)節(jié)所述供氣管路的供氣量。

7.如權(quán)利要求1所述的光刻機臺供水設(shè)備，其特征在于，還包括冷卻裝置，所述供水管路中的去離子水經(jīng)過所述冷卻裝置冷卻后進入所述溶氣裝置，所述冷卻裝置能夠?qū)⑺鋈ルx子水冷卻至0～20℃范圍內(nèi)。

8.一種涂膠顯影機，其特征在于，所述涂膠顯影機具有如權(quán)利要求1-7任一項所述的光刻機臺供水設(shè)備。

9.如權(quán)利要求8所述的涂膠顯影機，其特征在于，包括所述供水管路對應(yīng)的晶圓承載臺，所述晶圓承載臺用于晶圓顯影后的顯影液清洗，其被配置為能夠以2500～4000r/min的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。

10.一種光刻機，其特征在于，所述光刻機具有如權(quán)利要求1-7任一項所述的光刻機臺供水設(shè)備。