[實(shí)用新型]一種用于相控陣超聲儀器和探頭的系統(tǒng)性能校準(zhǔn)B型試塊有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820913148.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208366925U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱琪;張小平;張偉;夏樂(lè);徐境陽(yáng);陳進(jìn);孔燕;孫洪娜;曹文娟;商亞男;胡德軍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 安徽津利能源科技發(fā)展有限責(zé)任公司;中國(guó)能源建設(shè)集團(tuán)安徽電力建設(shè)第一工程有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N29/30 | 分類(lèi)號(hào): | G01N29/30 |
| 代理公司: | 合肥天明專(zhuān)利事務(wù)所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 趙瑜;金凱 |
| 地址: | 230000 安徽省*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 試塊 人工反射體 探頭標(biāo)記 校準(zhǔn) 相控陣超聲 主體上表面 圓心 邊界距離 水平距離 系統(tǒng)性能 直線(xiàn)分布 探頭 兩組 本實(shí)用新型 垂直距離 上下表面 無(wú)損檢測(cè) 側(cè)面 刻蝕 平行 垂直 | ||
本實(shí)用新型屬于無(wú)損檢測(cè)領(lǐng)域,具體涉及一種用于相控陣超聲儀器和探頭的系統(tǒng)性能校準(zhǔn)B型試塊,包括試塊主體以及設(shè)置在試塊主體上的兩組人工反射體和兩個(gè)探頭標(biāo)記;所述兩個(gè)探頭標(biāo)記分別刻蝕于試塊主體上下表面且水平距離≥0,兩組人工反射體分別分布于試塊主體左右兩個(gè)區(qū)域;其中一組人工反射體沿垂直于試塊主體上表面的直線(xiàn)分布,以其中一個(gè)探頭標(biāo)記為圓心,水平距離均為50mm,角度范圍30~85°,且與試塊主體的側(cè)面邊界距離≥25mm;另一組人工反射體沿平行于試塊主體上表面的直線(xiàn)分布,以另一個(gè)探頭標(biāo)記為圓心,垂直距離均為25mm,角度范圍5~60°,且與試塊主體的側(cè)面邊界距離≥25mm;所述人工反射體的直徑為2mm。校準(zhǔn)方便快捷,無(wú)相互干擾。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于無(wú)損檢測(cè)領(lǐng)域,具體涉及一種用于相控陣超聲儀器和探頭的系統(tǒng)性能校準(zhǔn)B型試塊。
背景技術(shù)
相控陣超聲檢測(cè)技術(shù)是一種新型無(wú)損檢測(cè)技術(shù),在進(jìn)行檢測(cè)工藝設(shè)計(jì)之前,一般要求對(duì)相控陣超聲檢測(cè)儀器的性能和相控陣探頭的性能進(jìn)行校準(zhǔn),包括儀器的水平線(xiàn)性、垂直線(xiàn)性、扇掃角度的分辨力、扇掃角度范圍的測(cè)量誤差、扇掃成像分辨率等。傳統(tǒng)的校準(zhǔn)試塊中的反射體比較密集,在進(jìn)行聲束校準(zhǔn)時(shí),相鄰聲束孔之間會(huì)產(chǎn)生干擾。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種用于相控陣超聲儀器和探頭的系統(tǒng)性能校準(zhǔn)B型試塊,可進(jìn)行扇掃成像縱向分辨力、扇掃成像橫向分辨力、成像縱向幾何尺寸測(cè)量誤差、成像橫向幾何尺寸測(cè)量誤差等性能的校準(zhǔn)。
本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種用于相控陣超聲儀器和探頭的系統(tǒng)性能校準(zhǔn)B型試塊,包括試塊主體(1)以及設(shè)置在試塊主體(1)上的兩組人工反射體(2)和兩個(gè)探頭標(biāo)記(3);所述兩個(gè)探頭標(biāo)記(3)分別刻蝕于試塊主體(1)上下表面且水平距離≥0,兩組人工反射體(2)分別分布于試塊主體(1)左右兩個(gè)區(qū)域;其中一組人工反射體(2)沿垂直于試塊主體(1)上表面的直線(xiàn)分布,以其中一個(gè)探頭標(biāo)記(3)為圓心,水平距離均為50mm,以垂直于試塊主體(1)上表面為0°記,角度范圍30~85°,且與試塊主體(1)的側(cè)面邊界距離≥25mm;另一組人工反射體(2)沿平行于試塊主體(1)上表面的直線(xiàn)分布,以另一個(gè)探頭標(biāo)記(3)為圓心,垂直距離均為25mm,以垂直于試塊主體(1)下表面為0°記,角度范圍5~60°,且與試塊主體(1)的側(cè)面邊界距離≥25mm;所述人工反射體(2)的直徑為2mm。
優(yōu)選地,所述兩組人工反射體(2)分別設(shè)置12個(gè),間隔為5°。
優(yōu)選地,所述試塊主體(1)為表面光滑平整的立方體結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選地,所述試塊主體(1)的材質(zhì)為20號(hào)碳鋼。
本實(shí)用新型的有益效果在于:
本實(shí)用新型B型試塊可進(jìn)行扇掃成像縱向分辨力、扇掃成像橫向分辨力、成像縱向幾何尺寸測(cè)量誤差、成像橫向幾何尺寸測(cè)量誤差等性能的校準(zhǔn),試塊體積較小,方便攜帶,校準(zhǔn)方法快速便捷。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型一種用于相控陣超聲儀器和探頭的系統(tǒng)性能校準(zhǔn)B型試塊的主視圖。
附圖標(biāo)記:
1-試塊主體,2-人工反射體,3-探頭標(biāo)記。
具體實(shí)施方式
為更好理解本實(shí)用新型,下面結(jié)合實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述,以下實(shí)施例僅是對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行說(shuō)明而非對(duì)其加以限定。
試塊結(jié)構(gòu):
如圖1所示,一種用于相控陣超聲儀器和探頭的系統(tǒng)性能校準(zhǔn)B型試塊,包括試塊主體1以及設(shè)置在試塊主體1上的兩組人工反射體2和兩個(gè)探頭標(biāo)記3。試塊主體1為表面光滑平整的立方體結(jié)構(gòu),由優(yōu)質(zhì)的20號(hào)碳鋼制成,尺寸為150*25*100(mm)。
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