[實用新型]一種單晶爐排氣管疏通裝置有效
| 申請號: | 201820909767.X | 申請日: | 2018-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN208527571U | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發明(設計)人: | 宗順順;王龍;龔連鶴;關培海;朱萬超 | 申請(專利權)人: | 山東大海新能源發展有限公司 |
| 主分類號: | B08B9/043 | 分類號: | B08B9/043 |
| 代理公司: | 濟南千慧專利事務所(普通合伙企業) 37232 | 代理人: | 吳紹群 |
| 地址: | 257300 山東省東營市*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 推拉桿 安裝管道 管道蓋 排氣管 清塵頭 單晶 爐排 氣管 本實用新型 疏通裝置 單晶爐 密封帽 排氣效果 堆積 疏通 外圍 封閉 出口 | ||
本實用新型提供一種單晶爐排氣管疏通裝置,涉及單晶爐技術領域,能夠解決因排氣管中堆積雜質而引發的單晶爐中排氣效果較差的問題。該裝置包括推拉桿、清塵頭和管道蓋。其中,管道蓋封閉排氣管的出口,管道蓋上設置有安裝管道,推拉桿與清塵頭相連,推拉桿外圍包有安裝管道,推拉桿的長度大于安裝管道的長度,在推拉桿相對于管道蓋運動的過程中,清塵頭位于排氣管內,推拉桿上設置有密封帽,密封帽與安裝管道相連。本實用新型適用于單晶爐排氣管的疏通。
技術領域
本實用新型涉及單晶爐技術領域,尤其涉及一種單晶爐排氣管疏通裝置。
背景技術
在單晶硅的生產過程中,單晶爐中會產生諸如一氧化硅、碳氈等雜質。以一氧化硅為例,隨著單晶爐爐內一氧化硅濃度的升高,會導致爐內壓強的增高,使爐內壓強超過設定值,從而對單晶硅生產過程產生影響。目前,為了解決上述問題,通過在單晶爐中設置排氣管,以將這些雜質排到單晶爐的排氣管中。
以一氧化硅為例,一氧化硅在800℃以上是氣體,在800℃以下是固體,即粉塵。在一氧化硅被排放到排氣管內之后,由于排氣管內的溫度低于單晶爐爐內的溫度,因此,一氧化硅進入排氣管后會因溫度降低到800℃以下而變成粉塵。隨著單晶爐使用時間的加長,排氣管的管道內往往會沉積大量粉塵,從而影響排氣管的排氣效果,導致單晶爐的爐內壓強升高,增加單晶硅的生產難度。
實用新型內容
本實用新型提供一種單晶爐排氣管疏通裝置,能夠解決因排氣管中堆積雜質而引發的單晶爐中排氣效果較差的問題。
為達到上述目的,本實用新型的實施例采用如下實現方式:
本實用新型提供一種單晶爐排氣管疏通裝置,該裝置包括推拉桿、清塵頭和管道蓋。管道蓋封閉排氣管的出口,管道蓋上設置有安裝管道,推拉桿與清塵頭相連,推拉桿外圍包有安裝管道,推拉桿的長度大于安裝管道的長度,在推拉桿相對于管道蓋運動的過程中,清塵頭位于排氣管內,推拉桿上設置有密封帽,密封帽與安裝管道相連。在上述裝置的使用過程中,工作人員可以通過向排氣管內部施加作用于推拉桿的力,以控制與推拉桿相連的清塵頭移動到排氣管內部靠近熱場的位置。此時,被清塵頭推動的粉塵可以被推送到單晶爐的爐膛內,但仍處于熱場外,因此,實現了排氣管的疏通,且不會影響到單晶硅的生產過程。完成一次雜質的推送之后,工作人員可以通過對推拉桿施加向單晶爐外部方向的作用力,以將清塵頭拽向接近或是觸碰到管道蓋的位置。對于工作人員而言,按照上述實現步驟反復推拉該推拉桿,能夠有效將排氣管中積壓的粉塵推散,比如,使積壓的粉塵盡可能均勻的分布在排氣管內,并選擇性使部分粉塵落入單晶爐的爐膛內而處于熱場外的位置。這樣就可以使排氣管內有足夠的空間容納單晶爐產生的諸如一氧化硅等雜質。
在一種實現方式中,密封帽與安裝管道螺紋連接。
在一種實現方式中,密封帽與安裝管之間設置有密封圈。這樣在對管道蓋的安裝孔進行密封時,密封圈可以用于填補在密封帽與安裝管道之間存在的縫隙中。需要說明的是,該密封圈的材質可以為橡膠等具有一定彈性的材質,比如,氟橡膠圈。
在一種實現方式中,清塵頭與推拉桿為一體式結構。
在一種實現方式中,清塵頭與推拉桿螺紋連接。
在一種實現方式中,清塵頭的外徑小于排氣管的內徑。相比較于清塵頭的外徑與排氣管的內徑相同的情況而言,由于清塵頭的外表面不會與排氣管的內表面直接接觸,因此,能夠減少對排氣管內部及清塵頭外部的磨損,從而延長排氣管及清塵頭7的使用壽命。
在一種實現方式中,清塵頭設置有鏤空區域,以節省清塵頭的制造成本。
在一種實現方式中,推拉桿和清塵頭的材質為不銹鋼,以節省制造成本,且確保單晶爐排氣管疏通裝置能夠耐得住高溫、磨損。
附圖說明
圖1為本實用新型提供的單晶爐排氣管疏通裝置的結構示意圖一;
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