[實用新型]一種免黑化的低反射率金屬網格觸摸屏有效
| 申請號: | 201820900217.1 | 申請日: | 2018-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN208298148U | 公開(公告)日: | 2018-12-28 |
| 發明(設計)人: | 俎阿敏;劉威;崔子龍;吳德生 | 申請(專利權)人: | 信利光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 鄧義華;廖苑濱 |
| 地址: | 516600 廣東省汕*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 金屬網格 觸摸屏 黑化 低反射率金屬 氮化鉬 金屬層 網格 遮擋 干涉現象 制備工藝要求 本實用新型 金屬網格層 氮化鉬層 低反射率 立方晶體 強光照射 有效控制 低成本 高反射 上表面 線寬 保證 | ||
本實用新型提供的免黑化的低反射率金屬網格觸摸屏,其通過在在金屬網格層的上表面設置一層氮化鉬層,由于氮化鉬是一種深灰色立方晶體,能夠確保金屬網格的金屬層被其遮擋,從而即使在強光照射下也不會出現高反射的現象,從而無需再進行黑化工藝,提升了觸摸屏的顯示質量的同時有效控制了成本,并且由于金屬層被氮化鉬遮擋,因此,即使不嚴格控制金屬網格的線寬,也不會出現莫瑞干涉現象,因此,對于金屬網格的制備工藝要求較低,可以在保證產品低反射率、高顯示質量的同時具有低成本。
技術領域
本實用新型涉及觸摸屏的技術領域,尤其是涉及一種免黑化的低反射率金屬網格觸摸顯示屏。
背景技術
近年來觸摸屏發展極其迅速,但ITO作為導電層材料在觸摸屏行業中還是占最大的比例。而且均需要整面鍍ITO膜然后刻蝕實現圖案化。ITO本身資源稀少加之刻蝕會浪費掉極大一部分,也因此,采用Ag、Cu、MoAlMo等金屬代替ITO受到觸摸屏制備廠商推崇。
但是由于一般的金屬網格并不透明,因此必須要求細線條、低反射;但是實際生產時,一般用銅、銀甚至是鉬鋁鉬等反射率高的金屬制作網格,即易反射光線,導致金屬網格容易被肉眼發現,從而影響觸摸顯示屏的顯示效果,傳統的工藝中,往往通過采用黑化靶材的方式來減少金屬網格的反射現象的發生,然而,黑化靶材會導致產品成本上升,從而在金屬網格觸摸屏競爭壓力巨大的市場條件下,上述工藝生產的金屬網格觸摸屏很難做到物美價廉。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種免黑化的低反射率金屬網格觸摸屏,從而解決現有技術金屬網格觸摸屏的制備成本高、反射率高、顯示效果差、產品競爭力低的技術問題。
本實用新型提供一種免黑化的低反射率金屬網格觸摸屏,,所述免黑化的低反射率金屬網格觸摸屏包括由上至下依次設置的:蓋板、油墨層、第一層金屬網格、第一OC層、第二層金屬網格、第二OC層;其中:
所述第一金屬網格層共有三層,由上至下依次為:第一氮化鉬層、第一金屬Al層或者第一金屬Cu層或者第一金屬Ag層、第一金屬Mo層或者第三氮化鉬層;
所述第二金屬網格層共有三層,由上至下依次為:第二氮化鉬層、第二金屬Al層或者第二金屬Cu層或者第二金屬Ag層、第二金屬Mo層或者第四氮化鉬層。
進一步的,所述第一氮化鉬層是通過磁控反應濺射將氮化鉬沉積在玻璃基板上,或者所述第一氮化鉬網格層是通過真空蒸鍍將氮化鉬沉積在玻璃基板上。
進一步的,所述第二氮化鉬層是通過磁控反應濺射將氮化鉬沉積在第一OC層上,或者所述第二氮化鉬網格層是通過真空蒸鍍將氮化鉬沉積在第一OC層上。
進一步的,所述第一金屬網格層和第二金屬網格層交叉設置,第一金屬網格層的網格線寬和第二金屬網格層的網格線寬相等。
本實用新型的另一個目的在于提供一種觸摸顯示屏,其具有前述任一技術方案所述的免黑化的低反射率金屬網格觸摸屏,還包括貼合在所述第二OC層上的顯示屏。
進一步的,所述顯示屏可以為LCM顯示模組或者OLED。LCM顯示模組具有尺寸優勢,并且工作過程中無輻射、無閃爍,能耗也比較低,視覺效果好;OLED是自發光的,不需要背光源,其能夠實現屏幕的超薄化,并且OLED抗震性能好、可視角度大、響應時間短、刷新速度快、低溫性能好、發光效率高、對比度出色、可彎曲,能夠適應于多種工況和顯示器形狀。
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