[實用新型]L波段微放電抑制星用高功率環(huán)行器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820884085.8 | 申請日: | 2018-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN208272096U | 公開(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭承敏;夏瑞青 | 申請(專利權(quán))人: | 西南應(yīng)用磁學(xué)研究所 |
| 主分類號: | H01P1/383 | 分類號: | H01P1/383;H01P1/38 |
| 代理公司: | 綿陽市博圖知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51235 | 代理人: | 楊暉瓊 |
| 地址: | 621000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 環(huán)行器 連接器 微放電 高功率環(huán)行器 連接器內(nèi)導(dǎo)體 本實用新型 中心導(dǎo)體 上腔體 微波元器件 設(shè)備投入 有效抑制 主體兩端 圍合成 下腔體 下腔 產(chǎn)品結(jié)構(gòu) 交錯 體內(nèi) 延伸 | ||
本實用新型公開了一種L波段微放電抑制星用高功率環(huán)行器,屬于微波元器件技術(shù)領(lǐng)域,包括環(huán)行器主體和與所述環(huán)行器主體兩端連接的連接器,所述環(huán)行器主體包括相互連接的上腔體和下腔體,所述上腔體和下腔體內(nèi)分別設(shè)置有上介質(zhì)和下介質(zhì),所述上介質(zhì)和下介質(zhì)內(nèi)側(cè)圍合成環(huán)行器內(nèi)部,所述上介質(zhì)和下介質(zhì)內(nèi)側(cè)設(shè)置有基片,所述基片上設(shè)置有中心導(dǎo)體;所述連接器內(nèi)設(shè)置有連接器內(nèi)導(dǎo)體和連接器介質(zhì),所述中心導(dǎo)體與所述連接器內(nèi)導(dǎo)體相連,所述連接器介質(zhì)延伸至所述環(huán)行器內(nèi)部,與所述上介質(zhì)和下介質(zhì)交錯;本實用新型的環(huán)行器可以有效抑制微放電的產(chǎn)生,對產(chǎn)品結(jié)構(gòu)、外形尺寸沒有限制,不需要昂貴的設(shè)備投入,工藝簡單,適合推廣。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及微波元器件技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種L波段微放電抑制星用高功率環(huán)行器。
背景技術(shù)
隨著衛(wèi)星技術(shù)的高速發(fā)展,對星載微波設(shè)備的小型化、輕量化及高功率化的要求越來越高,而衛(wèi)星工作在真空環(huán)境時,微波電路隨著功率的提高容易出現(xiàn)異于地面常壓下的放電現(xiàn)象,該放電現(xiàn)象會嚴重影響衛(wèi)星的信號傳輸甚至導(dǎo)致整顆衛(wèi)星失效,危害巨大。這種放電現(xiàn)象叫做微放電,為保證星載設(shè)備壽命期內(nèi)正常工作,需采取有效措施抑制微放電的產(chǎn)生。
微放電現(xiàn)象是由微波系統(tǒng)內(nèi)部件表面二次電子發(fā)射引起的,見圖1。在真空環(huán)境下,電子的平均自由程很長(和結(jié)構(gòu)縫隙尺寸相比)。部件內(nèi)縫隙尺寸和微波頻率周期使得電子渡越時間滿足:
當前抑制微放電的方法主要為以下幾種:
a)通過結(jié)構(gòu)設(shè)計,降低產(chǎn)品局部電場強度;改變內(nèi)外導(dǎo)體的間隔尺寸,使電子在內(nèi)外導(dǎo)體之間的渡越時間大于射頻電壓的半周期;
b)對材料表面進行鍍膜處理,通過鍍金、鍍銀、硌酸鹽處理等方式,降低表面二次電子發(fā)射系數(shù);
c)對材料表面進行清潔處理,去除污染物帶來的微放電影響;
d)利用化學(xué)方法微刻蝕鋁合金鍍銀表面,使表面形成納米微陷阱結(jié)構(gòu),抑制金屬表面的二次電子發(fā)射;
e)利用光刻工藝在金屬表面刻蝕幾微米至幾十微米的規(guī)則陣列結(jié)構(gòu),抑制金屬表面二次電子發(fā)射的。
當前抑制微放電的方法不足在于:
a)通過結(jié)構(gòu)設(shè)計達到降低微放電閾值,此種方法需要足夠大的物理尺寸,但由于星載設(shè)備受限于火箭載荷能力,通常都有小型化、輕量化的要求,因此,該方法的代價成本過高;
b)微刻蝕工藝和光刻工藝要求專業(yè)的工藝設(shè)備和工藝參數(shù),投入較大,且某些結(jié)構(gòu)不適合使用;
c) 硅橡膠填充,不能避免介質(zhì)平面在多次熱脹冷縮后產(chǎn)生新的間隙。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的就在于提供一種L波段微放電抑制星用高功率環(huán)行器,以解決上述問題。
為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案是這樣的:
一種L波段微放電抑制星用高功率環(huán)行器,包括環(huán)行器主體和與所述環(huán)行器主體兩端連接的連接器,所述環(huán)行器主體包括相互連接的上腔體和下腔體,所述上腔體和下腔體內(nèi)分別設(shè)置有上介質(zhì)和下介質(zhì),所述上介質(zhì)和下介質(zhì)內(nèi)側(cè)圍合成環(huán)行器內(nèi)部,所述上介質(zhì)和下介質(zhì)內(nèi)側(cè)設(shè)置有基片,所述基片上設(shè)置有中心導(dǎo)體;所述連接器內(nèi)設(shè)置有連接器內(nèi)導(dǎo)體和連接器介質(zhì),所述中心導(dǎo)體與所述連接器內(nèi)導(dǎo)體相連,所述連接器介質(zhì)延伸至所述環(huán)行器內(nèi)部,與所述上介質(zhì)和下介質(zhì)交錯。
本實用新型的“高功率”,除非特別說明,是指L波段,平均功率不小于200W,或者峰值功率不小于1500W。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西南應(yīng)用磁學(xué)研究所,未經(jīng)西南應(yīng)用磁學(xué)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820884085.8/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種光纖光柵泥石流地聲傳感系統(tǒng)
- 一種光纖光柵泥石流地聲傳感系統(tǒng)
- 半腔結(jié)構(gòu)波導(dǎo)環(huán)行器
- 低功率源需求的波導(dǎo)環(huán)行器功率試驗系統(tǒng)
- 低功率源需求的波導(dǎo)環(huán)行器功率試驗方法
- 低功率源需求的波導(dǎo)環(huán)行器功率試驗系統(tǒng)
- 一種X波段高功率波導(dǎo)合成器
- 一種實現(xiàn)大帶寬高隔離度的新型波導(dǎo)環(huán)行器結(jié)匹配結(jié)構(gòu)
- 一種X波段高功率波導(dǎo)合成器
- 在時分雙工通信中應(yīng)用環(huán)行器的通信裝置





