[實用新型]一種CVD鍍膜機有效
| 申請號： | 201820871205.0 | 申請日： | 2018-06-06 |
| 公開（公告）號： | CN208472188U | 公開（公告）日： | 2019-02-05 |
| 發明（設計）人： | 姚勇;蔣融融 | 申請（專利權）人： | 上海三朗納米技術有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 201600 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍膜機 鍍膜腔室 底盤 本實用新型 電極 機械泵 鐘罩 導向升降裝置 加熱電源裝置 待鍍膜工件 工作效率高 控制工作臺 工作氣體 柜體內部 進氣裝置 設備結構 升降裝置 導向軸 工作臺 抽氣 柜體 立柱 罩住 加熱 通氣 升降 通電 | ||
1.一種CVD鍍膜機，其特征在于：包括柜體、固定于柜體上端面的底盤、垂直于柜體上端面且與柜體固定的立柱、位于立柱內側的導向軸以及導向升降裝置、與導向升降裝置固定且與導向軸滑動連接的鐘罩、以及設置于柜體外部的機械泵，工作時，鐘罩罩住底盤以形成鍍膜腔室，機械泵對鍍膜腔室抽氣；
所述底盤上設置有用于放置待鍍膜工件的工作臺，以及用于對工作氣體進行加熱的電極；
所述柜體內部設置有給鍍膜腔室進行通氣的進氣裝置、控制工作臺升降的第一升降裝置、以及給電極通電的加熱電源裝置。
2.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述進氣裝置包括輸氣管以及若干第一氣動控制閥，所述第一氣動控制閥安裝于輸氣管中，所述輸氣管與外部氣體以及鐘罩連通。
3.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述第一升降裝置包括伺服電機、第一絲桿、以及滑塊，所述伺服電機與第一絲桿連接，所述滑塊與工作臺固定連接，滑塊與第一絲桿螺紋連接。
4.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述導向升降裝置為蝸輪蝸桿升降裝置，蝸輪蝸桿升降裝置帶動鐘罩沿導向軸做上下升降運動。
5.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述鐘罩包括位于上部的冷卻層以及位于下部的用于鍍膜腔室密封的密封層，所述冷卻層設置有冷卻管路，冷卻管路的進水端經水閥后與冷水機的出水口連接，冷卻管路的出水端與冷水機的進水口連接。
6.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述底盤上開設有排氣孔，排氣孔通過輸氣管與柜體外部的機械泵連接，所述輸氣管中設置有第二氣動控制閥。
7.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述底盤底部安裝有測定鍍膜腔室內部壓力的薄膜規以及電阻規。
8.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述底盤上開設有進氣孔，進氣孔與進氣管連通，所述進氣管中設置有第三氣動控制閥。
9.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述柜體上方固定安裝有拖鏈。
10.根據權利要求1所述一種CVD鍍膜機，其特征在于：所述柜體的底部安裝有腳輪。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
