[實用新型]一種沉積缸清洗裝置及離心沉積機

有效

• 申請號: 201820865383.2
• 申請日: 2018-06-05
• 公開（公告）號: CN208450148U
• 公開（公告）日: 2019-02-01
• 發明（設計）人: 盧藝森;廖寶根
• 申請（專利權）人: 肇慶市格朗自動化科技有限公司
• 主分類號: B08B9/093
• 分類號: B08B9/093;B08B13/00;C25D21/08;C25D5/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 楊勛

本實用新型公開了一種沉積缸清洗裝置及離心沉積機，包括固定支架和清洗組件，其中，所述固定支架上固定設置有直線驅動機構，所述直線驅動機構用于驅使所述清洗組件進行直線運動；所述清洗組件包括殼體，所述殼體上設置有可360°轉動且內部中空的噴頭，所述噴頭的轉動方向與所述清洗組件的直線運動方向垂直。該沉積缸清洗裝置操作簡單，節省了人工且清洗效率高。

技術領域

本實用新型涉及沉積技術領域，尤其涉及一種沉積缸清洗裝置及離心沉積機。

背景技術

隨著生產技術日益月新，生活水平不斷提高，對電子產品功能不斷革新換代，必將導致電子元件需求量不斷增加，其中電子產品中使用了大量的片式電容、電阻、電感。由于電子產品的功能增多，迫使元器件的體積要求也越來越小，微型化的元器件也隨之誕生，傳統的0805、0603已不能滿足電子產品的要求，0402、0201及更小尺寸的電子元件已經成為主流的元器件產品，以滿足體積小、功能多的各種電子產品的需求。為提高耐磨性、抗氧化性等性能，一般需要對電子元件進行沉積處理，使得金屬離子沉積于電子元件的表面。

電子元件在每次進行沉積處理前，都需要對沉積缸進行清洗。目前都是人工對沉積缸進行清洗，浪費人力，且效率低。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的缺陷，提供一種沉積缸清洗裝置及離心沉積機，用以解決現有技術中的問題。

為解決上述問題，本實用新型提供了：一種沉積缸清洗裝置，包括固定支架和清洗組件，其中，所述固定支架上固定設置有直線驅動機構，所述直線驅動機構用于驅使所述清洗組件進行直線運動；

所述清洗組件包括殼體，所述殼體上設置有可360°轉動且內部中空的噴頭，所述噴頭的轉動方向與所述清洗組件的直線運動方向垂直。

作為上述技術方案的進一步改進，所述噴頭的橫截面呈圓形，所述噴頭的側面及底部均設置有出水孔。

作為上述技術方案的進一步改進，所述直線驅動機構和所述清洗組件之間設置有提蓋機構；

所述提蓋機構用于提起沉積缸的缸蓋。

作為上述技術方案的進一步改進，所述提蓋機構包括安裝板、卡爪組件和用于驅動所述卡爪組件的動力單元；

所述直線驅動機構和所述清洗組件分別安裝于所述安裝板的兩側；

所述動力單元固定于所述安裝板上，并位于靠近所述清洗組件的一側；

所述卡爪組件位于所述動力單元和所述清洗組件之間。

作為上述技術方案的進一步改進，所述卡爪組件包括套筒和位于所述套筒內部的活動爪，其中，所述套筒的側壁上設置有與所述活動爪相對應的通孔；

所述套筒內設置滑動設置有活動芯，所述活動芯用于在所述動力單元的驅動下驅使所述活動爪伸出所述通孔。

作為上述技術方案的進一步改進，所述活動芯上設置橫截面自上而下逐漸減小的推伸部，所述活動爪與所述推伸部的側壁相接觸；

所述動力單元用于驅使所述活動芯進行直線運動，所述活動芯的運動方向與自身的橫截面相垂直；

所述活動爪的下表面與所述殼體的上表面相貼合且滑動連接，所述活動爪的活動方向與所述活動芯的直線運行方向垂直。

作為上述技術方案的進一步改進，所述套筒內設置復位件，所述復位件用于提供復位作用力使所述活動爪縮回所述套筒內。

作為上述技術方案的進一步改進，所述固定支架上設置有直線軸承；

所述安裝板上固定設置有與所述直線軸承一一對應的導向軸，所述導向軸與所述直線軸承滑動連接；

所述導向軸與所述清洗組件的直線運動方向平行。