[實用新型]一種中高溫太陽能選擇性吸收涂層有效
| 申請號： | 201820863074.1 | 申請日： | 2018-06-05 |
| 公開（公告）號： | CN208328096U | 公開（公告）日： | 2019-01-04 |
| 發明（設計）人： | 楊勇;姚婷婷;金克武;李剛;沈洪雪;彭賽奧;王天齊;楊揚;金良茂;馬立云 | 申請（專利權）人： | 中建材蚌埠玻璃工業設計研究院有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/08;C23C14/06 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源專利商標事務所 34113 | 代理人： | 楊晉弘 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 本實用新型 選擇性吸收涂層 中高溫太陽能 紅外反射層 減反射層 發射率 金屬基 吸收率 磁控濺射法 復合吸收層 熱穩定性 太陽光譜 吸收效率 制作工藝 吸收層 中高溫 鍍膜 三層 制備 金屬 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種中高溫太陽能選擇性吸收涂層，包括現有金屬基底，其特征在于：在金屬基底上，從下到上還分別有三層：紅外反射層、吸收層和減反射層；
所述的紅外反射層為Al、Au、Ag或Ni任一種金屬的涂層，厚度為30-50nm；
所述的吸收層自下而上依次包括TiN膜和TiCrN膜，TiN膜的厚度為80-100nm，TiCrN膜的厚度為50-80nm；
所述減反射層自下而上依次包括Cr2O3膜、AlN膜和Al2O3膜，Cr2O3膜的厚度為30-50nm，AlN膜的厚度為50-70nm，Al2O3膜的厚度為20-60nm。
2.根據權利要求1所述一種中高溫太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于：在300-2500nm范圍內，Cr2O3膜的折射率為2.29-2.61，AlN膜折射率為2.00-2.25，Al2O3膜的折射率為1.58-1.79。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中建材蚌埠玻璃工業設計研究院有限公司，未經中建材蚌埠玻璃工業設計研究院有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820863074.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種去離子水補償裝置
- 下一篇：一種磁控濺射儀的靶基距定量可控升降裝置
- 同類專利
- 專利分類
