[實用新型]一種原子層沉積設備

有效

• 申請號: 201820862121.0
• 申請日: 2018-06-05
• 公開（公告）號: CN208517526U
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458;C23C16/52
• 代理公司: 上海市錦天城律師事務所 31273
• 代理人: 何金花

1.一種原子層沉積設備，其特征在于，包括反應腔室、進氣管、承載臺、轉速同步調節器以及電機；所述反應腔室一側的下端設有進氣口、另一側的下端設有出氣口；所述進氣管豎直布設于所述反應腔室中，并與所述進氣口連通，所述進氣管上沿豎向方向設有若干氣孔；所述承載臺設于所述反應腔室的底部，所述電機設于所述反應腔室的下方，所述電機傳動連接所述承載臺，并帶動所述承載臺勻速轉動；所述轉速同步調節器連接所述電機和所述進氣口，并用于控制所述電機的轉速和所述進氣口的進氣時間以使通過所述進氣口向所述反應腔室通入清潔氣體所用時間滿足所述承載臺旋轉一周用時的整數倍關系。

2.根據權利要求1所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述轉速同步調節器還與所述出氣口相連，用于控制所述電機的轉速和經所述出氣口出氣的時間以使經所述出氣口出氣的時間亦滿足所述承載臺旋轉一周用時的整數倍關系。

3.根據權利要求1所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述進氣口的位置低于所述出氣口的位置。

4.根據權利要求1所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述承載臺用于承載晶圓的面與位于所述進氣管上最低位置處氣孔所在面平齊。

5.根據權利要求1所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述進氣管有兩根，一根通過所述進氣口連通于反應氣體的氣源，另一根通過所述進氣口連通于清潔氣體的氣源。

6.根據權利要求1所述的原子層沉積設備，其特征在于，所述進氣口有兩個及以上，兩個及以上的所述進氣口與所述出氣口間隔均勻布設于所述反應腔室的下端。

7.根據權利要求1所述的原子層沉積設備，其特征在于，還包括雙噴霧器，所述進氣口的進氣端連通于所述雙噴霧器。