[實用新型]環形單晶無機非金屬部件的制作設備及飛輪有效
| 申請號: | 201820859837.5 | 申請日: | 2018-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN208362459U | 公開(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發明(設計)人: | 靳普 | 申請(專利權)人: | 至玥騰風科技投資集團有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/27 | 分類號: | C23C16/27;C23C16/32;C23C16/40;C23C16/517;C30B25/00 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100088 北京市西城*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子室 飛輪 無機非金屬 單晶 制作設備 進氣口 控制組件 真空裝置 制備容器 等離子 微波室 室內 等離子體 等離子體沉積 等離子體分布 低熱膨脹系數 本實用新型 飛輪儲能器 微波發生器 高導熱性 外圓周面 微波激勵 原料氣體 抽真空 高儲能 高硬度 氣壓 微波 隔離 制作 | ||
1.一種環形單晶無機非金屬部件的制作設備,其特征在于,用于制作環形單晶無機非金屬部件,所述制作設備包括:制備容器、基體和基體控制組件;
所述制備容器包括微波室和等離子室,所述微波室與所述等離子室隔離,所述微波室內設置有微波發生器,所述等離子室設置有進氣口和真空裝置,所述真空裝置用于將所述等離子室抽真空,并控制所述等離子室內的氣壓,從所述進氣口進入所述等離子室中的原料氣體能夠在微波激勵下形成等離子體;
所述基體設置于所述等離子室內的等離子體分布區域,所述基體控制組件用于控制所述基體旋轉,以使等離子體沉積于所述基體的外圓周面形成環形單晶無機非金屬部件。
2.根據權利要求1所述的制作設備,其特征在于,所述基體控制組件包括基體安裝平臺和基體夾持裝置;
所述基體和所述基體夾持裝置均設置于所述基體安裝平臺上;
所述基體夾持裝置用于夾持所述基體在所述基體安裝平臺上固定和旋轉。
3.根據權利要求2所述的制作設備,其特征在于,所述基體夾持裝置包括支持件、轉軸和驅動裝置;
所述支持件設置于所述基體安裝平臺上,所述轉軸架設在所述支持件上,并能夠相對所述支持件轉動,所述轉軸與所述驅動裝置傳動連接,所述基體套設在所述轉軸上;
所述驅動裝置用于驅動所述轉軸轉動,以使所述轉軸帶動所述基體旋轉。
4.根據權利要求1所述的制作設備,其特征在于,所述微波室包括頂蓋和側壁,所述頂蓋蓋合在所述側壁上;
所述頂蓋與所述側壁通過滑動件滑動連接;
所述微波發生器設置于所述頂蓋上;
所述滑動件用于調節所述頂蓋與所述等離子室之間的距離。
5.根據權利要求3所述的制作設備,其特征在于,所述基體包括圓環形承載件,設置于所述圓環形承載件內的套接環,以及連接所述圓環形承載件和所述套接環的連接件,所述圓環形承載件與所述套接環同軸設置;
所述轉軸與所述套接環傳動連接;
所述圓環形承載件的外圓周面用于沉積等離子體而形成所述環形單晶無機非金屬部件。
6.根據權利要求5所述的制作設備,其特征在于,所述圓環形承載件、所述套接環和所述連接件一體成型。
7.根據權利要求1所述的制作設備,其特征在于,所述微波室內還設置有波導管;
所述微波發生器的輸出端與所述波導管的輸入端連通,所述波導管的輸出端朝向所述等離子室;
所述波導管用于將所述微波發生器產生的微波傳輸至所述等離子室。
8.根據權利要求7所述的制作設備,其特征在于,所述微波發生器、所述波導管和所述基體位于同一安裝線上。
9.根據權利要求1所述的制作設備,其特征在于,所述等離子室包括隔離罩和側邊凸臺,所述隔離罩蓋合在所述側邊凸臺上;
所述側邊凸臺開設有所述進氣口;
所述隔離罩用于隔離所述微波室和所述等離子室;
所述進氣口用于向所述等離子室內輸送保護氣體和原料氣體。
10.一種飛輪,其特征在于,所述飛輪為利用如權利要求1至9中任一項所述的環形單晶無機非金屬部件的制作設備制作的環形單晶無機非金屬部件。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





