[實(shí)用新型]一種勻光裝置及包括該勻光裝置的發(fā)光設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820841201.8
• 申請(qǐng)日: 2018-06-01
• 公開（公告）號(hào): CN208672972U
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳林森;喬文;花爾凱;方宗豹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司;蘇州維旺科技有限公司;蘇州大學(xué)
• 主分類號(hào): G02F1/13357
• 分類號(hào): G02F1/13357;G02B27/09;G02B27/10
• 代理公司: 蘇州謹(jǐn)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 唐靜芳

1.一種勻光裝置，其特征在于，包括分光層和拓寬光譜層，所述分光層對(duì)入射光進(jìn)行散射，所述拓寬光譜層對(duì)散射后的光調(diào)制并拓寬光譜，所述分光層為衍射光學(xué)元件。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的勻光裝置，其特征在于，所述衍射光學(xué)元件上設(shè)有分光結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的勻光裝置，其特征在于，所述分光結(jié)構(gòu)為微納結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的勻光裝置，其特征在于，所述分光結(jié)構(gòu)的排布結(jié)構(gòu)為像素式、遍布式、沿衍射光學(xué)元件的周邊均勻分布或在衍射光學(xué)元件成局部分布結(jié)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的勻光裝置，其特征在于，當(dāng)所述分光結(jié)構(gòu)在衍射光學(xué)元件上局部分布時(shí)，所述局部分布結(jié)構(gòu)整體成環(huán)形或方形。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的勻光裝置，其特征在于，所述分光層和拓寬光譜層之間還設(shè)有勻光片,所述勻光片用于將從分光層發(fā)出的光散射。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的勻光裝置，其特征在于，所述拓寬光譜層為熒光層或量子點(diǎn)層。

8.一種發(fā)光設(shè)備，其特征在于，包括光源以及權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的勻光裝置。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光設(shè)備，其特征在于，所述光源為主動(dòng)式發(fā)光光源，所述主動(dòng)式發(fā)光光源為L(zhǎng)ED光源。