[實用新型]一種二萘酚堿熔反應(yīng)釜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820834403.X
• 申請日: 2018-05-31
• 公開（公告）號: CN208512544U
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 韓喜民;李斌革;周巖
• 申請（專利權(quán)）人: 山西豪侖科化工有限公司
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;B01F7/18
• 代理公司: 太原高欣科創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 14109
• 代理人: 崔雪花;冷錦超

本實用新型公開了一種二萘酚堿熔反應(yīng)釜，包括釜體、卸料彎管、攪拌器和溫控裝置，釜體頂部設(shè)置有溫控裝置；所述釜體筒體下半部、下封頭和卸料彎管外表面設(shè)置有加熱裝置；所述釜體側(cè)壁下半部和下封頭的加熱裝置為半管，半管之間設(shè)置有蒸汽盤管；所述半管從上到下分為一區(qū)、二區(qū)和三區(qū)，各區(qū)均可獨立使用；所述卸料彎管外部的加熱裝置為電伴熱帶；所述溫控裝置與加熱裝置連接，包括測溫裝置和控制裝置。所述半管最高處高度為釜體高度的1/2至2/3處。所述攪拌器為四葉軸流式攪拌器。該裝置工作性能穩(wěn)定，作為一種全新的堿熔加熱方式和攪拌技術(shù)，能有效優(yōu)化堿熔生產(chǎn)工藝。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明一種二萘酚堿熔反應(yīng)釜，屬于化工裝置技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

堿熔法是芳磺酸鹽在高溫下與熔融的苛性堿作用，使磺酸基被羥基所置換的反應(yīng)稱為堿熔，是在有機物分子中引入羥基一種方法。羥基化后的有機物在染料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、合成樹脂、塑料及助劑等工業(yè)中有著廣泛的用途。

傳統(tǒng)堿熔方式為明火爐膛加熱，加熱介質(zhì)為天然氣、煤制氣或焦爐煤氣等，堿熔鍋的材質(zhì)為鑄鐵鍋，加熱溫度320～340℃，這種堿熔方式的弊端有以下幾點：1）明火加熱爐膛溫度750～850℃，反應(yīng)釜下面火焰直接加熱，溫度高，鑄鐵鍋非常容易損壞，與要求溫度相比溫差過大，有機物容易燒焦生成大量副產(chǎn)物；2）由于爐膛加熱，鑄鐵鍋體積做不大，單鍋能力偏小；3）明火加熱，火焰溫度不容易控制，點火停爐頻煩，容易發(fā)生安全生產(chǎn)事故。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種二萘酚堿熔反應(yīng)釜，該裝置工作性能穩(wěn)定，作為一種全新的堿熔加熱方式和攪拌技術(shù)，能有效優(yōu)化堿熔生產(chǎn)工藝。

本實用新型采用的技術(shù)方案是：一種二萘酚堿熔反應(yīng)釜，包括釜體、卸料彎管、攪拌器和溫控裝置，釜體頂部設(shè)置有溫控裝置；

所述釜體筒體下半部、下封頭和卸料彎管外表面設(shè)置有加熱裝置；

所述釜體側(cè)壁下半部和下封頭的加熱裝置為半管，半管之間設(shè)置有蒸汽盤管；所述半管從上到下分為一區(qū)、二區(qū)和三區(qū)，各區(qū)均可獨立使用；

所述卸料彎管外部的加熱裝置為電伴熱帶；

所述溫控裝置與加熱裝置連接，包括測溫裝置和控制裝置。

所述半管最高處高度為釜體高度的1/2至2/3處。

所述攪拌器為四葉軸流式攪拌器。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有如下優(yōu)點：

（1）本實用新型反應(yīng)釜筒體和下封頭加半管進行釜內(nèi)物料的加熱，加熱分為3段，半管之間加蒸汽盤管，初始開車時蒸汽盤管預(yù)熱熔鹽半管到140℃以上，防止熔鹽堵塞管道；用熔鹽方式代替明火進行加熱具有以下4個優(yōu)點：a.反應(yīng)釜比傳統(tǒng)鑄鐵鍋體積可增大4倍，單臺設(shè)備生產(chǎn)能力得到提高；b.與明火相比，熔鹽溫度低，可減少副產(chǎn)物生成，產(chǎn)品質(zhì)量和收率都得到提高；c.傳熱多少可通過調(diào)節(jié)閥進行調(diào)節(jié)，操作環(huán)境好，安全系數(shù)高；d.熔鹽爐熱效率遠高于爐膛明火加熱熱效率，可降低焦爐煤氣消耗，提高經(jīng)濟效益。

（2）卸料彎管采用電伴熱帶加熱方式，防止罐底和卸料管道物料堵塞。

（3）攪拌采用四葉軸流式攪拌，替代原來的錨式攪拌器，物料上下混合效果好，攪拌電機功率也比傳統(tǒng)工藝低，節(jié)約能耗。

（4）卸料采用彎管形式，與罐底卸料比較，提高了操作的安全性。

附圖說明

圖1是本發(fā)明裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1為釜體、2為卸料彎管、3為攪拌器、4為溫控裝置、5為加熱裝置、6為一區(qū)、7為二區(qū)、8為三區(qū)。

具體實施方式