[實用新型]雙面電極

有效

• 申請號: 201820823192.X
• 申請日: 2018-05-30
• 公開（公告）號: CN208459987U
• 公開（公告）日: 2019-02-01
• 發明（設計）人: 蕭仲欽;練修成;蔡家揚
• 申請（專利權）人: 凱姆控股有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 王玉雙;李巖

一種雙面電極，包含：一基板，其中該基板具有相對的一第一表面及一第二表面；及層疊設置于該第一表面上的一第一感光層及一第一金屬納米線層與層疊設置于該第二表面上的一第二感光層及一第二金屬納米線層；其中該第一感光層與該第二感光層經曝光后定義出一去除區與一保留區，位于該去除區的該第一感光層與該第一金屬納米線層被移除而定義出位于該第一表面的一第一電極，位于該去除區的該第二感光層與該第二金屬納米線層被移除而定義出位于該第二表面的一第二電極。

技術領域

本實用新型是關于一種雙面電極。

背景技術

由于透明導體可同時具有光穿透性與適當的導電性，因而常應用于許多顯示或觸控相關的裝置中。一般而言，透明導體可以是各種金屬氧化物，例如氧化銦錫(Indium TinOxide，ITO)、氧化銦鋅(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化鎘錫 (Cadmium Tin Oxide，CTO)或摻鋁氧化鋅(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。金屬氧化物薄膜可通過物理氣象沉積法或化學氣象沉積法而形成，并通過激光工藝而形成適當圖案。然而，這些金屬氧化物薄膜的制作方法可能面臨高昂的成本、復雜的工藝以及低良率的問題。在部份情況下，經圖案化的金屬氧化物薄膜也可能有容易被觀察到的問題。因此，現今發展出了多種透明導體，例如利用納米線等材料所制作的透明導體。

然而利用納米線制作觸控電極，納米線與周邊區的金屬引線在工藝上及結構上都有許多待解決的問題，例如在進行雙面結構圖案化的工藝中，先對基板上層的納米銀表面上進行光阻涂布，再進行曝光、顯影、蝕刻等步驟，完成上層電極結構的制作之后，會先將上層完成的電極結構進行保護，再依序對下層的納米銀進行光阻涂布、曝光、顯影、蝕刻等步驟。而除了一般黃光微影的圖案化工藝之外，也有通過激光剝離的技術來進行圖案化。上述工藝在技術上都需分別對上下兩層進行制作，故工藝步驟上較為繁瑣，也相對費時。

若以激光進行納米線的圖案化蝕刻時，如參數調控不當，激光多余的能量所形成的熱效應，反而會破壞導線的邊緣精度，甚至傷害到底下基板造成部分缺陷；另外，現有技術提及在納米銀層與基板之間加入阻擋層，但當工藝完成之后，阻擋層仍會殘留在基板上，對于光學特性上(例如可見光穿透率或霧度等) 造成影響，劣化了影像顯示質量。

又例如傳統工藝采用的蝕刻液大多為強酸性，故會導致金屬引線受到蝕刻液的作用，使產品可靠度下降；另外，蝕刻液的殘留問題也需要額外的清潔過程方能克服。

再一方面，利用納米線制作觸控感應電極的工藝中，通常會需要在納米在線成形外涂層(overcoat)，以保護納米線，但殘留的外涂層夾設在焊接墊與外部電路板之間，會造成接觸阻抗過高的問題。

因此在利用納米線制作觸控感應電極的工藝上、電極結構上必須依照材料特性重新設計，使產品達到較佳的表現。

實用新型內容

本實用新型的部分實施方式提出一種雙面電極，包含：一基板，其中該基板具有相對的一第一表面及一第二表面；及層疊設置于該第一表面上的一第一感光層及一第一金屬納米線層與層疊設置于該第二表面上的一第二感光層及一第二金屬納米線層；其中該第一感光層與該第二感光層經曝光后定義出一去除區與一保留區，位于該去除區的該第一感光層與該第一金屬納米線層被移除而定義出位于該第一表面的一第一電極，位于該去除區的該第二感光層與該第二金屬納米線層被移除而定義出位于該第二表面的一第二電極。

于本實用新型的部分實施方式中，該第一感光層及該第二感光層為具有相同光波段吸收特性的光阻，該第一感光層吸收大于一第一曝光源的光線總能量的80％，該第二感光層吸收大于一第二曝光源的光線總能量的80％。

于本實用新型的部分實施方式中，該光吸收添加物的濃度為約1％～3％，一第一曝光源的光線對該第一感光層的穿透率(light transmission)在30％以下，一第二曝光源的光線對該第二感光層的穿透率(light transmission)在30％以下。