[實用新型]一種工業廢水光催化反應處理設備

有效

• 申請號: 201820803410.3
• 申請日: 2018-05-28
• 公開（公告）號: CN208361942U
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發明（設計）人: 王芳;尚海濱
• 申請（專利權）人: 濱州學院
• 主分類號: C02F1/32
• 分類號: C02F1/32;C02F1/74
• 代理公司: 濟南鼎信專利商標代理事務所(普通合伙) 37245
• 代理人: 曹玉琳

1.一種工業廢水光催化反應處理設備，包括罐蓋、罐體、接合法蘭、進水管和排水管，所述罐體豎直放置且下端中央固定設置有所述排水管，所述罐體的上端固定設置有所述接合法蘭，所述罐體的上端通過所述接合法蘭以螺栓連接的方式連接有所述罐蓋，所述罐蓋上設置有所述進水管，其特征在于：所述進水管豎直貫穿所述罐蓋的中央且下端伸入所述罐體內，所述罐蓋上繞著罐蓋均布設置有若干個電機架，所述電機架的上端自上而下嵌入有伺服電機，所述伺服電機的主軸朝下并連接有減速器，所述減速器嵌入在所述電機架內且下端連接有轉軸，所述轉軸自所述罐蓋的上端貫穿所述罐蓋并豎直伸入所述罐體內，所述轉軸的下端固定設置有扇輪，扇輪采用透明的鋼化玻璃制成且通過銷連接嵌套在轉軸的下端；

所述罐體內固定設置有反應盤，所述反應盤將所述罐體內部分隔為反應區和存儲區上下兩部分；

所述反應盤的盤底上端面中央為向上凸起的分流倒錐，所述分流倒錐呈錐形且錐尖部分伸入所述進水管的下端，所述進水管的下端不與所述分流倒錐接觸；

所述分流倒錐的下端固定設置有供氣漏斗，所述供氣漏斗呈倒錐形且與所述分流倒錐之間形成高壓儲存氣腔，所述分流倒錐的上端面均布設置有若干個連通所述高壓儲存氣腔和所述反應區的噴氣孔，所述供氣漏斗的下端中央固定設置有高壓供氣管，所述高壓供氣管上靠近所述供氣漏斗的部分上設置有單向閥，所述單向閥使得所述供氣漏斗單向向所述高壓儲存氣腔供氣，所述高壓供氣管遠離所述供氣漏斗的端部穿出所述罐體；

所述反應盤的盤底上端面繞著所述分流倒錐均布鋪放有若干個光催化劑空心球；

所述扇輪的下端處于所述分流倒錐和所述反應盤的盤沿之間且均不與所述分流倒錐和所述反應盤的盤沿接觸，也不與所述光催化劑空心球接觸；

所述反應盤的盤沿與所述罐體的連接處上下貫穿設置有若干個繞著所述反應盤軸線均勻分布的側豁口，所述側豁口固定封蓋有濾網，設置所述側豁口使得所述反應區和所述存儲區連通，而設置所述濾網則限制所述光催化劑反應球在所述反應區內滾動；

所述罐體側壁上固定設置有排氣管，所述排氣管將外界與所述存儲區連通；

處于所述反應區的所述罐體內壁上均布設置有若干個紫外線燈，所述紫外線燈的軸線向所述分流倒錐的延長線經過所述分流倒錐的上壁面。

2.根據權利要求1所述的一種工業廢水光催化反應處理設備，其特征在于：所述光催化劑空心球的直徑為1mm-10mm，且所述光催化劑空心球的直徑均大于所述濾網的網孔直徑和所述噴氣孔的直徑。

3.根據權利要求1所述的一種工業廢水光催化反應處理設備，其特征在于：所述扇輪的下端與所述光催化劑空心球之間的間距為20mm-60mm。

4.根據權利要求1所述的一種工業廢水光催化反應處理設備，其特征在于：所述高壓供氣管遠離處于所述罐體外的端部連接有高壓供氣裝置，所述高壓供氣裝置通過所述高壓供氣管向所述反應區供給光催化氧化的氧氣。

5.根據權利要求1所述的一種工業廢水光催化反應處理設備，其特征在于：所述進水管的軸線、所述轉軸的軸線和與所述轉軸臨近的所述側豁口的側面處于同一豎直面上。