[實(shí)用新型]具有高抗激光閾值的增透膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820760612.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208255450U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高藝寧 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州市天凱光電配件廠 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B1/115 | 分類(lèi)號(hào): | G02B1/115 |
| 代理公司: | 南京艾普利德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32297 | 代理人: | 陸明耀 |
| 地址: | 215000 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 三氧化二鋁層 氧化鉿層 膜層 沉積 本實(shí)用新型 二氧化硅層 外輪廓 增透膜 折射率 高抗 鏡頭 激光 抗激光損傷 融石英玻璃 圖標(biāo) 低折射率 無(wú)放射性 激光器 散射 三層 破裂 吸收 損害 | ||
1.具有高抗激光閾值的增透膜,包括紫外融石英玻璃制成的鏡頭(1),其特征在于:所述鏡頭(1)上沉積有中折射率的三氧化二鋁層(2),所述三氧化二鋁層(2)上沉積有鋯折射率的氧化鉿層(3),所述氧化鉿層(3)上沉積有低折射率的二氧化硅層(4),且所述三氧化二鋁層(2)、氧化鉿層(3)以及二氧化硅層(4)的外輪廓與所述鏡頭(1)的外輪廓一致。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高抗激光閾值的增透膜,其特征在于:所述三氧化二鋁層(2)的物理厚度為480~490埃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高抗激光閾值的增透膜,其特征在于:所述氧化鉿層(3)的物理厚度為570~580埃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高抗激光閾值的增透膜,其特征在于:所述二氧化硅層(4)的物理厚度為555~560埃。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高抗激光閾值的增透膜,其特征在于:以真空蒸發(fā)的方式沉積所述三氧化二鋁層(2)、氧化鉿層(3)以及二氧化硅層(4)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有高抗激光閾值的增透膜,其特征在于:所述鏡頭(1)的表面粗糙度小于5埃。
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