[實用新型]選擇性表面處理的高速電鍍裝置

有效

• 申請號: 201820724024.5
• 申請日: 2018-05-15
• 公開（公告）號: CN208293098U
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發明（設計）人: 趙永強
• 申請（專利權）人: 深圳市順信精細化工有限公司
• 主分類號: C25D5/02
• 分類號: C25D5/02;C25D17/02;C25D17/00
• 代理公司: 深圳市鼎智專利代理事務所(普通合伙) 44411
• 代理人: 徐永雷

本實用新型提供一種選擇性表面處理的高速電鍍裝置，包括子槽和母槽，在所述子槽內設有電極單元、擋水裝置以及定位裝置，所述擋水裝置通過所述子槽固定，所述擋水裝置設有至少一開口，所述定位裝置設于所述擋水裝置的上方并固定待電鍍件的位置，在電鍍時，所述母槽的電鍍液不間斷地輸。本實用新型能夠對待電鍍產品進行選擇性表面處理，處理效果好，而且節約處理成本。

技術領域

本實用新型涉及一種電鍍技術領域，尤其涉及一種選擇性表面處理的高速電鍍裝置。

背景技術

本部分旨在為權利要求中及其具體實施方式中陳述的本實用新型實施方式提供背景或者上下文，此處的描述的內容，不因為是包括在本部分中就承認是現有技術。

電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如銹蝕)，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進美觀等作用。

電鍍時，鍍層或其他不溶性材料做陽極，待鍍的工件做陰極，鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的電鍍液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質或尺寸。

傳統的電鍍設備在對待電鍍產品電鍍時，產品需電鍍的功能區與非需電鍍的非功能區全部處理，電鍍時間長，電鍍液使用量大、電使用量也大、成本高，浪費資源，耗能高，廢水多，不環保。

實用新型內容

鑒于此，有必要提供一種選擇性表面處理的高速電鍍裝置，能夠對待電鍍產品進行選擇性表面處理，處理效果好，而且節約處理成本。

本實用新型提供一種選擇性表面處理的高速電鍍裝置，包括子槽和母槽，在所述子槽內設有電極單元、擋水裝置以及定位裝置，所述擋水裝置通過所述子槽固定，所述擋水裝置設有至少一開口，所述定位裝置設于所述擋水裝置的上方并固定待電鍍件的位置，在電鍍時，所述母槽的電鍍液不間斷地輸送至所述子槽中并控制液位達到所述待電鍍件所需的預設高度。

進一步的，所述定位裝置包括支撐治具以及壓緊治具，所述支撐治具支撐并保持所述待電鍍件的底部水平，所述壓緊治具壓緊并保持所述待電鍍件的頂部水平。

進一步的，所述高速電鍍裝置包括調整機構，通過所述調整機構能夠調整所述支撐治具和/或所述壓緊治具的高度。

進一步的，所述電極單元的陽極設于所述支撐治具的下方，所述電極單元的陰極壓緊所述待電鍍件的頂部。

進一步的，所述高速電鍍裝置還包括液位高度控制裝置，所述液位高度控制裝置至少能夠用于將所述母槽的電鍍液不間斷地從所述子槽的底部輸送至所述子槽中。

進一步的，所述液位高度控制裝置還用于將所述子槽內的電鍍液輸送至所述母槽中。

進一步的，所述母槽中設有支撐板，所述子槽通過所述支撐板支撐并收容在所述母槽中。

進一步的，所述高速電鍍裝置還包括與所述待電鍍件相配的遮蔽模具，所述遮蔽模具屏蔽所述待電鍍件的非電鍍區。

相較于現有技術，本實用新型的有益效果：本實用新型在電鍍時，母槽的電鍍液是動態地輸送到子槽中的，根據待電鍍產品的所需的電鍍位置，控制液位達到預設高度，因此能夠針對液位以下的、需要電鍍的功能區進行電鍍，而且，子槽內設有擋水裝置，通過擋水裝置能夠控制電鍍液的流動速率，保證電鍍液達到預設的高度時，保持液位的平穩，電鍍更為精確，處理效果好。

附圖說明