[實用新型]一種硅片的分離機構

有效

• 申請號: 201820714562.6
• 申請日: 2018-05-14
• 公開（公告）號: CN208189543U
• 公開（公告）日: 2018-12-04
• 發明（設計）人: 張學強;戴軍;張建偉;羅銀兵
• 申請（專利權）人: 羅博特科智能科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L31/18
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257
• 代理人: 耿丹丹

本申請提供了一種硅片的分離機構，所述的分離機構包括第一安裝架，所述的第一安裝架的上端設置有第一吹氣組件，所述的第一吹氣組件包括第一滑桿、能夠沿所述的第一滑桿滑動的第一滑動塊、驅動所述的第一滑動塊沿所述的第一滑桿滑動的第一驅動汽缸，所述的第一滑動塊上固定有一第一安裝板，所述的第一安裝板上設置有至少一個第一風刀。本申請的一種硅片分離機構，具有可移動的風刀，吹向硅片之間，消除硅片之間的負壓，避免硅片分片過程中產生的劃痕。

技術領域

本申請涉及一種硅片的分離機構。

背景技術

硅片是太陽能電池片的載體，硅片質量的好壞直接決定了太陽能電池片轉換效率的高低，太陽能電池需要一個大面積的PN結以實現光能到電能的轉換，而擴散爐即為制造太陽能電池PN結的專用設備。管式擴散爐主要由石英舟的上下載部分、廢氣室、爐體部分和氣柜部分等四大部分組成。擴散一般用三氯氧磷液態源作為擴散源。把P型硅片放在管式擴散爐的石英容器內，在850---900 攝氏度高溫下使用氮氣將三氯氧磷帶入石英容器，通過三氯氧磷和硅片進行反應，得到磷原子。經過一定時間，磷原子從四周進入硅片的表面層，并且通過硅原子之間的空隙向硅片內部滲透擴散，形成了N型半導體和P型半導體的交界面，也就是PN結。

在退火工藝中，需要將雙片的硅片分為單片，但是在分片過程中，由于片與片之間會產生負壓，因此，在分片的過程中容易造成劃痕，為避免劃痕的產生，繼續生產一種能夠消除兩個硅片之間負壓的機構。

實用新型內容

本申請要解決的技術問題是提供一種硅片的分離機構。

為了解決上述技術問題，本申請提供了一種硅片的分離機構，所述的分離機構包括第一安裝架，所述的第一安裝架的上端設置有第一吹氣組件，所述的第一吹氣組件包括第一滑桿、能夠沿所述的第一滑桿滑動的第一滑動塊、驅動所述的第一滑動塊沿所述的第一滑桿滑動的第一驅動汽缸，所述的第一滑動塊上固定有一第一安裝板，所述的第一安裝板上設置有至少一個第一風刀。

優選地，所述的分離機構還包括第二安裝架，所述的第二安裝架的上端設置有第二吹氣組件，所述的第一吹氣組件和第二吹氣組件相對設置，分別位于待分離硅片的兩側。

優選地，所述的第二安裝架的上端設置有第二吹氣組件，所述的第二吹氣組件包括第二滑桿、能夠沿所述的第二滑桿滑動的第二滑動塊、驅動所述的第二滑動塊沿所述的第二滑桿滑動的第二驅動汽缸，所述的第二滑動塊上固定有一第二安裝板，所述的第二安裝板上設置有至少一個第二風刀。

優選地，所述的第一滑桿與所述的第二滑桿相互平行設置，且所述的第一滑桿和第二滑桿沿水平方向設置。

優選地，所述的第一安裝架上還設置有一升降裝置，所述的第一吹氣組件安裝在所述的升降裝置上，所述的升降裝置用于驅動所述的第一吹氣組件在上下移動。該升降機構的作用為，當硅片分離完成后，升降機構控制吹氣組件下降，起到避讓作用，使硅片能夠順利移動至下一個工位。

優選地，所述的升降裝置為一升降汽缸，所述的汽缸包括一驅動桿，所述的第一吹氣組件固定在所述的驅動桿的上端部。

本申請的一種硅片分離機構，具有可移動的風刀，吹向硅片之間，消除硅片之間的負壓，避免硅片分片過程中產生的劃痕。

附圖說明

圖1是一種硅片分離機構的結構示意圖。

其中：11、第一安裝架；12、升降裝置；13、第一吹氣組件；14、第一滑動塊；15、第一滑桿；16、第一安裝板；17、第一風刀；21、第二安裝架；23、第二吹氣組件；25、第二滑桿；26、第二安裝板；27、第二風刀。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施例對本申請作進一步說明，以使本領域的技術人員可以更好地理解本申請并能予以實施，但所舉實施例不作為對本申請的限定。