[實用新型]真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820714466.1
• 申請日: 2018-05-14
• 公開（公告）號: CN208649455U
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張要朋;賈建濤;董炳榮;吳勝朋;費騰;謝鵬程
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江旗濱節(jié)能玻璃有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 浙江永鼎律師事務(wù)所 33233
• 代理人: 陸永強;張建

本實用新型屬于鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，涉及一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置。它解決了現(xiàn)有技術(shù)中除渣裝置不能將濺射的廢渣帶出磁控濺射設(shè)備的技術(shù)問題。它包括濺射底板，以及嵌設(shè)在濺射底板中的傳動滾輪，傳動滾輪頂部延伸出濺射底板上表面，還包括除渣板，除渣板下表面設(shè)置有若干鏟渣槽口，每個鏟渣槽口連接有一個儲渣腔室，鏟渣槽口靠近儲渣腔室的一側(cè)設(shè)置有鏟渣刮刀。與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本實用新型有點在于，能方便地將高出于傳動滾輪上表面的濺射廢渣鏟離濺射底板并帶出濺射鍍膜設(shè)備，從本質(zhì)上解決濺射廢渣劃傷玻璃生表面的技術(shù)問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置。

背景技術(shù)

目前，節(jié)能玻璃最為普遍高效的制備方法是真空磁控濺射鍍膜。真空磁控濺射是指在真空環(huán)境下，將涂層材料作為陰極靶，利用氬離子轟擊靶材，產(chǎn)生陰極濺射，將靶材原子或分子濺射到工件上形成沉積層的成膜技術(shù)。但是，在設(shè)備進行玻璃鍍膜過程中，會出現(xiàn)濺射物堆積形成濺射殘渣，當(dāng)濺射殘渣的厚度過大，濺射殘渣會劃傷玻璃表面，造成產(chǎn)品的報廢。傳統(tǒng)做法是對設(shè)備通入大氣，將設(shè)備拆開，把底板取出進行清理，整個過程需要1至3天，大型真空磁控濺射鍍膜設(shè)備屬于貴重高投入設(shè)備，停機清理所致的時間成本較高，因此必須設(shè)計出一種可以去除底板上濺射殘渣的裝置，盡可能減少回氣次數(shù)，縮短清理時間。目前，業(yè)內(nèi)普遍使用的解決方式是鐵板壓實法，鐵板壓實法是通過滾輪來傳送一張鐵板到陰極靶材下，利用鐵板的自重及其高硬度將濺射物壓實，達到減少玻璃劃傷的目的。

但是，鐵板壓實法治標(biāo)不治本，沒有根本解決問題，不能將濺射的廢渣帶出磁控濺射設(shè)備，當(dāng)濺射物累積到一定厚度后，傳送鐵板壓實法已經(jīng)不再適用，仍需回氣除渣。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型的目的是針對上述問題，提供一種真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置，能方便地將鍍膜設(shè)備中過厚的濺射殘渣鏟起并帶出濺射鍍膜設(shè)備，從本質(zhì)上解決濺射殘渣過厚而影響玻璃生產(chǎn)質(zhì)量的問題。

為達到上述目的，本實用新型采用了下列技術(shù)方案：

本真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置，包括濺射底板，以及嵌設(shè)在濺射底板中的傳動滾輪，傳動滾輪頂部延伸出濺射底板上表面，還包括除渣板，所述的除渣板下表面設(shè)置有若干鏟渣槽口，每個鏟渣槽口連接有一個儲渣腔室，所述的鏟渣槽口靠近儲渣腔室的一側(cè)設(shè)置有鏟渣刮刀。

在上述的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置中，鏟渣刮刀截面呈三角形，所述的鏟渣刮刀遠(yuǎn)離儲渣腔室的一側(cè)設(shè)置有鏟渣刃，所述的鏟渣刮刀下刀面呈水平設(shè)置，所述的鏟渣刮刀上刀面傾斜向上設(shè)置且遠(yuǎn)離鏟渣刃的一側(cè)與儲渣腔室底面連接。

在上述的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置中，鏟渣槽口貫穿除渣板上下表面，所述的儲渣腔室由除渣板上表面向下凹陷形成，所述的鏟渣槽口的長度與鏟渣刃的長度相同。

在上述的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置中，鏟渣刃與儲渣腔室的長度相同，且鏟渣槽口與儲渣腔室的橫截面呈等長的矩形。

在上述的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置中，鏟渣槽口成列等距設(shè)置，相鄰兩列鏟渣槽口上的鏟渣槽口沿除渣板的軸向相錯設(shè)置，間隔一列鏟渣槽口的兩列鏟渣槽口之間的距離小于鏟渣槽口的長度。

在上述的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置中，間隔一列鏟渣槽口的兩列鏟渣槽口上的鏟渣槽口一一對應(yīng)且相互平行。

在上述的真空磁控濺射鍍膜設(shè)備除渣裝置中，每相鄰兩列鏟渣槽口上的鏟渣槽口沿除渣板的軸向上的投影有部分重合。

與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本實用新型的優(yōu)點在于：

1、除渣板跟隨傳動滾輪運動，有效鏟除突出于傳動滾輪的濺射廢渣，縮短濺射底板的清理周期，可有效降低鍍膜設(shè)備回氣除渣的頻率，提高了有效生產(chǎn)時間，降低了鍍膜設(shè)備的損耗，極大降低了生產(chǎn)成本。