[實(shí)用新型]掩膜板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820714443.0
• 申請(qǐng)日: 2018-05-14
• 公開（公告）號(hào): CN208266252U
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭校生;高峰;甘帥燕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山國(guó)顯光電有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 唐清凱

本實(shí)用新型涉及一種掩膜板，包括掩膜板主體和加強(qiáng)結(jié)構(gòu)，掩膜板主體包括相對(duì)設(shè)置的玻璃面與蒸鍍面；蒸鍍面上包括：蒸鍍區(qū)；虛設(shè)區(qū)，位于蒸鍍區(qū)一側(cè)；切割區(qū)，位于虛設(shè)區(qū)與蒸鍍區(qū)之間；過渡區(qū)，圍繞蒸鍍區(qū)設(shè)置，且虛設(shè)區(qū)與切割區(qū)均位于過渡區(qū)內(nèi)側(cè)；加強(qiáng)結(jié)構(gòu)設(shè)置于掩膜板主體的蒸鍍面上，且位于過渡區(qū)內(nèi)，加強(qiáng)結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離過渡區(qū)的一面高于蒸鍍面所在的平面。上述掩膜板，由于環(huán)繞蒸鍍區(qū)的過渡區(qū)設(shè)置了加強(qiáng)結(jié)構(gòu)，因此增加了過渡區(qū)的整體厚度，從而增加了掩膜板的整體結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，進(jìn)而大幅度降低了應(yīng)力集中、拉力、重力等因素對(duì)掩膜板的影響，從而有效改善了切割區(qū)的受力情況，達(dá)到了防止掩膜板因厚度不同導(dǎo)致的受力不均而產(chǎn)生褶皺的目的。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種掩膜板。

背景技術(shù)

有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又稱為有機(jī)電激光顯示或有機(jī)發(fā)光半導(dǎo)體，由于其具有驅(qū)動(dòng)電壓低、主動(dòng)發(fā)光、視角寬、效率高、響應(yīng)速度快、易實(shí)現(xiàn)全彩色大面積壁掛式顯示和柔性顯示等特點(diǎn)，因此逐漸取代液晶顯示器(LiquidCrystal Display，LCD)應(yīng)用于手機(jī)、電視等顯示終端上。

在OLED制造技術(shù)中，真空蒸鍍用的掩膜板是至關(guān)重要的部件，掩膜板可以控制有機(jī)材料沉積在屏體上的位置，從而在屏體上形成不同的有機(jī)圖案。掩膜板主要包括通用金屬掩膜板(Common Metal Mask，CMM)及精密金屬掩膜板(Fine Metal Mask，F(xiàn)MM)，其中通用金屬掩膜板主要用于蒸鍍共通層，精密金屬掩膜板主要用于蒸鍍發(fā)光層。

而目前，隨著人們對(duì)智能設(shè)備(特別是智能手機(jī))的屏占比要求的不斷提高，具有超高屏占比的超窄邊框甚至無邊框設(shè)計(jì)成為目前的發(fā)展趨勢(shì)，因此用于實(shí)現(xiàn)攝像、人臉識(shí)別等功能的電子器件通常被安裝于顯示屏范圍內(nèi)以避免占用顯示屏邊緣外側(cè)的空間而增大邊框?qū)挾龋瑥亩霈F(xiàn)了具有安裝槽的異形顯示屏。而在異形顯示屏的生產(chǎn)過程中，結(jié)構(gòu)與異形顯示屏相適應(yīng)的掩膜板在張網(wǎng)安裝于掩膜框架的過程中，由于各個(gè)位置的受力不均勻而容易出現(xiàn)褶皺，從而導(dǎo)致后續(xù)顯示屏像素蒸鍍位置精度降低。

實(shí)用新型內(nèi)容

基于此，有必要針對(duì)掩膜板在張網(wǎng)過程中受力不均勻的問題，提供一種可解決上述問題的掩膜板。

一種掩膜板，包括掩膜板主體和加強(qiáng)結(jié)構(gòu)，所述掩膜板主體包括相對(duì)設(shè)置的玻璃面與蒸鍍面；所述蒸鍍面上包括：

蒸鍍區(qū)；

虛設(shè)區(qū)，位于所述蒸鍍區(qū)一側(cè)；

切割區(qū)，位于所述虛設(shè)區(qū)與所述蒸鍍區(qū)之間并圍繞所述虛設(shè)區(qū)設(shè)置；以及

過渡區(qū)，圍繞所述蒸鍍區(qū)設(shè)置，且所述虛設(shè)區(qū)與所述切割區(qū)均位于所述過渡區(qū)靠近蒸鍍區(qū)一側(cè)；

所述加強(qiáng)結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述掩膜板主體的蒸鍍面上，且位于所述過渡區(qū)內(nèi)，所述加強(qiáng)結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離所述過渡區(qū)的一面高于所述蒸鍍面所在的平面。

上述掩膜板，用于在蒸鍍過程中用于控制有機(jī)材料沉積在被蒸鍍屏體上的位置，從而形成所需有機(jī)圖案。掩膜板上的切割區(qū)的設(shè)置可阻擋有機(jī)材料而避免有機(jī)材料沉積在被蒸鍍屏體上與切割區(qū)對(duì)應(yīng)的位置，從而形成與切割區(qū)的形狀相匹配的未蒸鍍區(qū)域。由于環(huán)繞蒸鍍區(qū)的過渡區(qū)設(shè)置了加強(qiáng)結(jié)構(gòu)，因此增加了過渡區(qū)的整體厚度，從而增加了掩膜板的整體結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，進(jìn)而大幅度降低了應(yīng)力集中、拉力、重力等因素對(duì)掩膜板的影響，從而有效改善了切割區(qū)的受力情況，達(dá)到了防止掩膜板因厚度不同導(dǎo)致的受力不均而產(chǎn)生褶皺的目的。而且，由于加強(qiáng)結(jié)構(gòu)高于蒸鍍面所在平面而并非玻璃面，從而避免影響后續(xù)蒸鍍過程中玻璃面貼附于被蒸鍍屏體上的平整度，且掩膜板在張網(wǎng)過程中的受力集中在蒸鍍面一側(cè)，從而避免玻璃面一側(cè)受到拉力的影響而降低蒸鍍圖案的精準(zhǔn)度。

可選地，所述加強(qiáng)結(jié)構(gòu)為多個(gè)，多個(gè)所述加強(qiáng)結(jié)構(gòu)間隔設(shè)置于所述過渡區(qū)內(nèi)。

可選地，所述加強(qiáng)結(jié)構(gòu)與所述掩膜板主體一體成型設(shè)置。