[實用新型]光刻機光源裝置

有效

• 申請號: 201820709656.4
• 申請日: 2018-05-14
• 公開（公告）號: CN208399889U
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發明（設計）人: 敬立成;戴滔;張斌
• 申請（專利權）人: 深圳市虎成科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型實施例公開了一種光刻機光源裝置，包括光源安裝架，光源安裝架上設有多塊光源單元板，所述光源單元板包括基板及多個UV LED光源，基板上開設有多個螺孔，基板通過螺絲固定于光源安裝架上；UV LED光源包括UV LED燈芯及對應的透鏡，透鏡穿設于光源安裝架上且透鏡與光源安裝架之間墊設有橡膠圈，所述透鏡的透光角度小于2.5度，UV LED燈芯設于基板正面上對應透鏡的焦點處。本實用新型實施例通過將整個UV LED光源分別設于多塊光源單元板上進行安裝同時采用多個螺絲調整光源單元板進而對光源單元板上各個透鏡的角度進行微調，解決了光束方向難以微調以及光斑分散的問題，進而提高了光刻精度。

技術領域

本實用新型涉及曝光機技術領域，尤其涉及一種光刻機光源裝置。

背景技術

光刻是制作半導體的關鍵制程，決定了線路的精密度。光刻(Iithography) 設備是一種投影系統，由紫外光源、光學鏡片、對準系統等部件組裝而成。在半導體制作過程中，光刻設備會投射光束，穿過印著圖案的掩模及光學鏡片，將線路圖曝光在帶有光感涂層的硅晶圓上；通過蝕刻曝光或未受曝光的部份來形成溝槽，然后再進行沉積、蝕刻、摻雜，架構出不同材質的線路；此制程被一再重復，就能將數以十億計的MOSFET或其他晶體管，建構在硅晶圓上，形成一般所稱的集成電路。

半導體制程越先進，光刻設備便需要越精密復雜，包括高頻率的激光光源、光掩模的對位精度、設備穩定度等等，集合了許多領域的最尖端技術。因此光刻機被譽為半導體產業皇冠上的明珠，具有高度的技術與資金門檻。

現有的光刻設備的光源裝置發出的光的光斑分散且光斑之間相互覆蓋，導致能量分散，影響光刻精度；且光束方向難以進行微調，影響光刻精度。

實用新型內容

本實用新型實施例所要解決的技術問題在于，提供一種光刻機光源裝置，以使提高光刻精度。

為了解決上述技術問題，本實用新型實施例提出了一種光刻機光源裝置，包括光源安裝架，光源安裝架上設有多塊光源單元板，所述光源單元板包括基板及多個UV LED光源，基板上開設有多個螺孔，基板通過螺絲固定于光源安裝架上；UV LED光源包括UV LED燈芯及對應的透鏡，透鏡穿設于光源安裝架上且透鏡與光源安裝架之間墊設有橡膠圈，所述透鏡的透光角度小于2.5度， UV LED燈芯設于基板正面上對應透鏡的焦點處。

進一步地，所述多塊光源單元板上的UV LED光源呈至少一組多行等距排列。

進一步地，所述每個光源單元板包括12個且組成4*3矩陣的UV LED光源。

進一步地，所述UV LED燈芯的光波長范圍為250nm-450nm。

進一步地，所述基板為鋁基板。

進一步地，還包括散熱片，所述散熱片貼設于基板的背面。

本實用新型實施例通過提出一種光刻機光源裝置，包括光源安裝架以及多塊光源單元板，通過將整個UV LED光源分別設于多塊光源單元板上進行安裝同時采用多個螺絲調整光源單元板進而對光源單元板上各個透鏡的角度進行微調，解決了光束方向難以微調以及光斑分散的問題，進而提高了光刻精度。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例的光刻機光源裝置的正面結構圖。

圖2是本實用新型實施例的光刻機光源裝置的立體結構圖。

圖3是本實用新型實施例的光刻機光源裝置的側視圖。

附圖標號說明

光源安裝架10

螺孔11

光源單元板20

基板21