[實(shí)用新型]一種水箱底部的渦旋清洗排污裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820686004.3 | 申請日： | 2018-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN208527606U | 公開（公告）日： | 2019-02-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王洪剛 | 申請（專利權(quán)）人： | 青島沈源水務(wù)環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號： | B08B9/093 | 分類號： | B08B9/093 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 266000 山東省青*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 聚集區(qū) 凹陷 底板 清洗排污裝置 高壓噴口 外導(dǎo)流板 排污口 水箱 渦旋 本實(shí)用新型 圓心 內(nèi)導(dǎo)流板 渦旋水流 渦旋中心 指向 底板中部 快速強(qiáng)力 脈沖式 排污閥 下陷 沖洗 靜止 清洗 污染物 | ||
1.一種水箱底部的渦旋清洗排污裝置，其特征在于：包括底板，底板上方設(shè)置有圓形外導(dǎo)流板，底板中部下方設(shè)置有下陷的凹陷聚集區(qū)，凹陷聚集區(qū)中部設(shè)置有排污口，底板上方在外導(dǎo)流板與凹陷聚集區(qū)之間設(shè)置有若干內(nèi)導(dǎo)流板，外導(dǎo)流板上設(shè)置有一個(gè)高壓噴口；所述的內(nèi)導(dǎo)流板與指向圓心方向呈一定角度；所述的高壓噴口與指向圓心方向呈一定角度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水箱底部的渦旋清洗排污裝置，其特征在于：所述的高壓噴口與外導(dǎo)流板之間設(shè)置有密封圈。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水箱底部的渦旋清洗排污裝置，其特征在于：所述的內(nèi)導(dǎo)流板與指向圓心的順時(shí)針方向呈30度角。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種水箱底部的渦旋清洗排污裝置，其特征在于：所述的高壓噴口與指向圓心的順時(shí)針方向呈45度角。
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