[實用新型]一種用于多噴燈OVD的沉積裝置

有效

• 申請號: 201820681593.6
• 申請日: 2018-05-08
• 公開（公告）號: CN208454819U
• 公開（公告）日: 2019-02-01
• 發明（設計）人: 李應;陳海斌;陳劍;蘭興玲;陳強;李秀鵬
• 申請（專利權）人: 成都富通光通信技術有限公司
• 主分類號: C03B37/018
• 分類號: C03B37/018
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王學強;羅滿

本實用新型公開一種用于多噴燈OVD的沉積裝置，包括反應室，所述的反應室頂側設置由提升機構帶動上下運動的旋轉電機，旋轉電機的輸出軸通過連接頭將粉塵棒豎直吊裝在反應室內，所述的反應室內設置了噴燈組，所述的噴燈組包括若干沿著粉塵棒軸向排布的噴燈，所述的噴燈組由橫移組件帶動沿著粉塵棒的徑向移動，連接至噴燈的原料氣路上設置有流量調節閥。本實用新型所述的用于多噴燈OVD的沉積裝置控制噴燈與粉塵棒表面保持恒定的距離，并且控制噴燈的原料氣體供應量，從而保障粉塵棒表面的原料沉積密度的均勻一致性，提高玻璃化得到預制棒玻璃體外徑的一致性，提高沉積過程中外徑控制精度和沉積效率。

技術領域

本實用新型涉及光纖制造設備技術領域，尤其涉及一種用于多噴燈OVD的沉積裝置。

背景技術

生產大尺寸預制棒主要分兩個技術路線，一種RIC套管技術，一種是多噴燈OVD技術，其中多噴燈OVD技術路線又分為橫向與縱向兩種方式進行SiO₂粉塵堆積。噴燈噴出的SiCl₄蒸汽與氫氧發生水解反應形成SiO₂，噴燈噴出的SiCl₄蒸汽與氫氧發生水解反應的過程中主要在噴燈外部開始發生反應，在火焰長度(取決于由氫氧氣體配比)區間大體分為三個區間，遠端低溫區間，此區間的SiO₂粉塵顆粒分布較為分散，流速也較慢；高溫區間，此區間原料分布較為均勻，且火焰的穩定性也好，水解反應也較為充分；近端低溫區間，此區間氣體流速較快，水解反應的SiO₂粉塵顆粒也少。伴隨著沉積過程的持續增加，SiO₂粉塵棒的外徑也逐步擴大，表面與噴燈口的距離也逐步偏小，從而會直接影響SiO₂粉塵顆粒的粘附效果，沉積過程中的火焰溫度場隨著SiO₂粉塵棒外徑的增加，氣流方向發生變化，現有的沉積裝置難以保障SiO₂粉塵棒沿徑向上堆積的原料密度的一致性，會導致后續得到的預制棒玻璃體外徑不一致，最終影響拉絲得到的光纖性能。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題和提出的技術任務是對現有技術進行改進，提供一種用于多噴燈OVD的沉積裝置，解決目前技術中沉積裝置難以保障SiO₂粉塵棒沿徑向上堆積的原料密度的一致性，導致預制棒玻璃體外徑不一致，影響光纖性能的問題。

為解決以上技術問題，本實用新型的技術方案是：

一種用于多噴燈OVD的沉積裝置，包括反應室，所述的反應室頂側設置由提升機構帶動上下運動的旋轉電機，旋轉電機的輸出軸通過連接頭將粉塵棒豎直吊裝在反應室內，其特征在于，所述的反應室內設置了噴燈組，所述的噴燈組包括若干沿著粉塵棒軸向排布的噴燈，所述的噴燈組由橫移組件帶動沿著粉塵棒的徑向移動，連接至噴燈的原料氣路上設置有流量調節閥。本實用新型所述的用于多噴燈OVD的沉積裝置利用橫移組件調節噴燈組的噴燈距離粉塵棒表面的距離，使得粉塵棒表面位于噴燈火焰的高溫區間，此區間原料分布較為均勻，且火焰的穩定性也好，水解反應也較為充分，保障高效的沉積效率，確保粉塵棒表面處溫度場的一致性，保障氣流場的穩定性，同時通過流量調節閥調節噴燈的原料供應量，提高粉塵棒表面沉積密度的一致性，從而保障玻璃化后得到的預制棒玻璃體外徑的一致性，保障拉制得到的光纖的性能。

進一步的，所述的橫移組件、流量調節閥與主控器連接，通過主控器實現自動控制橫移組件調節噴燈組的噴燈與粉塵棒表面的距離以及噴燈的原料氣體流量，無需人工操作，控制方便精度高。