[實用新型]一種光控手寫裝置和光控手寫系統有效
| 申請號： | 201820677499.3 | 申請日： | 2018-05-08 |
| 公開（公告）號： | CN208351435U | 公開（公告）日： | 2019-01-08 |
| 發明（設計）人： | 不公告發明人 | 申請（專利權）人： | 深圳市德安里科技有限公司 |
| 主分類號： | G06F3/0354 | 分類號： | G06F3/0354 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 518100 廣東省深圳市寶*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光控 壓力檢測模塊 手寫裝置 書寫 光波發射 本實用新型 驅動模塊 手寫系統 檢測 模塊電連接 光波 手握部 寫字筆 閾值時 光強 薄膜 驅動 發射 | ||
1.一種光控手寫裝置，其特征在于，包括：書寫部和手握部；
所述書寫部包括第一壓力檢測模塊和光波發射模塊，所述第一壓力檢測模塊用于檢測所述書寫部所受到的第一壓力大小；
以及所述光控手寫裝置還包括驅動模塊，所述驅動模塊分別與所述第一壓力檢測模塊和所述光波發射模塊電連接，用于在檢測到所述第一壓力檢測模塊檢測的第一壓力大于第一壓力閾值時，驅動所述光波發射模塊發射設定光強的光波。
2.根據權利要求1所述的光控手寫裝置，其特征在于，還包括：
第二壓力檢測模塊，所述第二壓力檢測模塊設置在所述手握部，與所述驅動模塊電連接，用于檢測所述手握部所受到的第二壓力大小；
所述驅動模塊還用于根據所述手握部所受到的第二壓力大小驅動所述光波發射模塊發射不同光強的光波；
其中，所述光波發射模塊發射光波的光強與所述手握部受到的第二壓力成正比。
3.根據權利要求2所述的光控手寫裝置，其特征在于，還包括：
檔位調節模塊，所述檔位調節模塊與所述驅動模塊電連接，所述驅動模塊還用于檢測所述檔位調節模塊所處的檔位，并根據所述檔位調節模塊所處的檔位驅動所述光波發射模塊發射不同光強的光波。
4.根據權利要求1所述的光控手寫裝置，其特征在于，所述書寫部設置于所述手握部的一端，并與所述手握部固定連接。
5.根據權利要求1所述的光控手寫裝置，其特征在于，所述第一壓力檢測模塊為壓敏電阻。
6.根據權利要求1所述的光控手寫裝置，其特征在于，所述光波發射模塊為紫外線燈。
7.根據權利要求2所述的光控手寫裝置，其特征在于，所述第二壓力檢測模塊為壓敏電阻。
8.一種光控手寫裝置，其特征在于，包括：書寫部和手握部；
所述書寫部包括第一壓力檢測模塊和光波發射模塊，所述第一壓力檢測模塊用于檢測所述書寫部所受到的第一壓力大小；
以及所述光控手寫裝置還包括驅動模塊，所述驅動模塊分別與所述第一壓力檢測模塊和所述光波發射模塊電連接，用于在檢測到所述第一壓力檢測模塊檢測的第一壓力大于第一壓力閾值時，驅動所述光波發射模塊發射設定光強的光波；
第二壓力檢測模塊，所述第二壓力檢測模塊設置在所述手握部，與所述驅動模塊電連接，用于檢測所述手握部所受到的第二壓力大小；所述驅動模塊還用于根據所述手握部所受到的第二壓力大小驅動所述光波發射模塊發射不同光強的光波；其中，所述光波發射模塊發射光波的光強與所述手握部受到的第二壓力成正比。
9.一種光控手寫系統，其特征在于，包括權利要求1-8任一項所述的光控手寫裝置。
10.根據權利要求9所述的光控手寫系統，其特征在于，還包括，涂有液晶材料的紙或薄膜。
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