[實(shí)用新型]光觸媒流體處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820652609.0 | 申請日： | 2018-05-03 |
| 公開（公告）號： | CN208856946U | 公開（公告）日： | 2019-05-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 丁初稷;黃昱文 | 申請（專利權(quán)）人： | 丁初稷;福興洋有限公司 |
| 主分類號： | C02F1/30 | 分類號： | C02F1/30;C02F1/72;C02F101/30 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 李坤 |
| 地址： | 中國臺灣嘉義*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 反應(yīng)空間 光觸媒塊 流體處理裝置 石英基材 光觸媒 光源管 流體 光觸媒薄膜 反應(yīng)活性 光源照射 污染流體 導(dǎo)管 披覆 光源 進(jìn)口 填充 出口 凈化 | ||
1.一種光觸媒流體處理裝置，用于處理一流體，該光觸媒流體處理裝置包括：
一導(dǎo)管，包含一反應(yīng)空間、一進(jìn)口、以及一出口；
一光源管，設(shè)置于該反應(yīng)空間中，并提供一光源；以及
多個(gè)光觸媒塊材，填充于該反應(yīng)空間中并圍繞該光源管，且各該光觸媒塊材包含一石英基材、以及一光觸媒薄膜披覆于該石英基材表面；
其中，該光觸媒塊材經(jīng)該光源照射而具有反應(yīng)活性；該流體由該進(jìn)口進(jìn)入該反應(yīng)空間并接觸該光觸媒塊材以進(jìn)行反應(yīng)，經(jīng)反應(yīng)所得的一凈化流體由該出口離開該反應(yīng)空間。
2.如權(quán)利要求1所述的光觸媒流體處理裝置，其中，該石英基材由石英柱所組成。
3.如權(quán)利要求2所述的光觸媒流體處理裝置，其中，該石英柱由石英條裁切而成。
4.如權(quán)利要求3所述的光觸媒流體處理裝置，其中，該石英柱截面的最大距離與該石英柱的長度的比為1∶0.5～200。
5.如權(quán)利要求4所述的光觸媒流體處理裝置，其中，該石英柱截面的最大距離與該石英柱的長度比為1∶0.5～3。
6.如權(quán)利要求1所述的光觸媒流體處理裝置，其中，該光觸媒薄膜的厚度為10nm～500μm。
7.如權(quán)利要求1所述的光觸媒流體處理裝置，其中，該光源管包括一UV燈管以及一防水石英套管。
8.如權(quán)利要求7所述的光觸媒流體處理裝置，其中，該光源管的管壁至該導(dǎo)管內(nèi)側(cè)的最短直線距離為0.5cm～30cm。
9.如權(quán)利要求1所述的光觸媒流體處理裝置，其中，該石英基材呈不規(guī)則狀。
10.如權(quán)利要求9所述的光觸媒流體處理裝置，其中，呈不規(guī)則狀的該石英基材中，任一截面的最大距離與最小距離的長度比為1∶0.5～5。
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