[實用新型]一種用于射流電解加工的對刀裝置

有效

• 申請號: 201820638428.2
• 申請日: 2018-05-02
• 公開（公告）號: CN208132147U
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 宋旭東;張新民;明平美;李欣潮;蔡錦濤;劉筱笛;趙西梅;李潤清;張峻中
• 申請（專利權）人: 河南理工大學
• 主分類號: B23H3/00
• 分類號: B23H3/00;B23H11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于射流電解加工的對刀裝置，包括陰極噴嘴（3）、設有圓形法蘭（1）的夾持單元、對刀單元（2），其特征在于：所述的對刀單元（2）包括上導電環（2-1）、下導電環（2-2）、殼體（2-3）、對刀頭擋圈（2-4）和對刀頭（2-5）；所述的對刀頭（2-5）包括上端部位（2-5-1）和下端部位（2-5-2）；所述的殼體（2-3）可拆卸地固定于所述的圓形法蘭（1）的下方；所述的上導電環（2-1）固定于所述的殼體（2-3）的內部頂端；所述的下導電環（2-2）固定于所述的對刀頭（2-5）的頂端；所述的對刀頭（2-5）的上端部位（2-5-1）可滑動地安裝于所述的殼體（2-3）的內部，對刀頭（2-5）的下端部位（2-5-2）可滑動地安裝于所述的對刀頭擋圈（2-4）的內圈中；所述的對刀頭擋圈（2-4）固定于所述的殼體（2-3）的內部下端；所述的對刀單元（2）開有缺口（5），缺口（5）的尺寸D1大于所述的陰極噴嘴（3）的外徑D2。

2.根據權利要求1所述的一種用于射流電解加工的對刀裝置，其特征在于：所述的對刀頭（2-5）的下端部位（2-5-2）的長度L1大于所述的上導電環（2-1）和所述的下導電環（2-2）之間的距離L3與所述的對刀頭擋圈（2-4）的厚度L2之和。