[實(shí)用新型]投影設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820638244.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208367411U | 公開(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何九石 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳暴風(fēng)統(tǒng)帥科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03B21/14 | 分類號(hào): | G03B21/14 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237 | 代理人: | 李海寶 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)粵海*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 面殼 遮擋 投影設(shè)備 底殼 投射 投影器件 投影孔 旋轉(zhuǎn)操作 狀態(tài)切換 容置腔 投影技術(shù)領(lǐng)域 本實(shí)用新型 投影光線 投影狀態(tài) 相對(duì)旋轉(zhuǎn) 旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu) 旋轉(zhuǎn)連接 狀態(tài)時(shí) 連通 外部 | ||
1.一種投影設(shè)備,其特征在于,包括:
投影器件,用于產(chǎn)生投影光線;
底殼,所述底殼開設(shè)有用于容納所述投影器件的容置腔,所述底殼開設(shè)有連通至所述容置腔并供投影光線從所述容置腔投射至外部的投影孔;
面殼,所述面殼與所述底殼旋轉(zhuǎn)連接,所述面殼具有未遮擋所述投影孔的投射狀態(tài)以及遮擋所述投影孔的遮擋狀態(tài),所述面殼通過與所述底殼的相對(duì)旋轉(zhuǎn)來切換所述遮擋狀態(tài)和所述投射狀態(tài);
控制開關(guān),所述控制開關(guān)在所述面殼處于投影狀態(tài)時(shí)開啟所述投影器件,而在所述面殼處于所述遮擋狀態(tài)時(shí)關(guān)閉所述投影器件;
所述投影設(shè)備還包括用于旋轉(zhuǎn)連接所述底殼和所述面殼的旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),所述旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)包括:
旋轉(zhuǎn)連接件,所述旋轉(zhuǎn)連接件與所述面殼連接,并于朝向所述底殼的側(cè)面開設(shè)有旋轉(zhuǎn)腔;
外花鍵,所述外花鍵與所述上殼體連接,并位于所述旋轉(zhuǎn)腔內(nèi),所述外花鍵于其外周面至少設(shè)有三個(gè)溝槽,其中,所述外花鍵的中心軸線與所述面殼相對(duì)于所述上殼體的旋轉(zhuǎn)軸線重合;
彈性件,所述彈性件的一端連接于所述旋轉(zhuǎn)連接件,另一端彈性抵頂所述外花鍵周側(cè)壁面。
2.如權(quán)利要求1所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述投影設(shè)備還包括用于調(diào)整所述投影器件產(chǎn)生的投影光線的亮度以及角度的調(diào)控面板,所述底殼開設(shè)有供所述調(diào)控面板外露的外露孔,所述面殼在所述面殼處于投影狀態(tài)時(shí)外露所述調(diào)控面板,而在所述面殼處于所述遮擋狀態(tài)時(shí)遮擋所述調(diào)控面板。
3.如權(quán)利要求2所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述底殼包括位置關(guān)系分別上下設(shè)置且相互蓋合的上殼體和下殼體,所述上殼體和所述下殼體共同形成所述容置腔,所述投影孔和所述外露孔均開設(shè)于所述上殼體。
4.如權(quán)利要求3所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述下殼體呈圓柱狀;
所述投影孔和所述外露孔均開設(shè)于所述上殼體的柱面;
所述面殼圍合于所述上殼體的四周,并貼合所述上殼體的外周表面,所述面殼開設(shè)有在遮擋狀態(tài)時(shí)與所述投影孔錯(cuò)位設(shè)置而在投射狀態(tài)時(shí)與所述投影孔對(duì)位設(shè)置的投影避讓孔,以及在遮擋狀態(tài)時(shí)與所述外露孔錯(cuò)位設(shè)置而在投射狀態(tài)時(shí)與所述外露孔對(duì)位設(shè)置的外露避讓孔。
5.如權(quán)利要求4所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述上殼體的外徑小于所述下殼體的外徑,所述上殼體和所述下殼體的中心軸線重疊設(shè)置。
6.如權(quán)利要求1所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述底殼于其朝向面殼的側(cè)面開設(shè)限位槽,所述限位槽的布置路徑為圓弧線,所述圓弧線的圓心位于所述底殼和所述面殼的旋轉(zhuǎn)軸線上;
所述面殼于其朝向所述底殼的側(cè)面凸設(shè)有置于所述限位槽內(nèi)的限位凸起,所述限位凸起在所述面殼處于投影狀態(tài)時(shí)抵觸到所述限位槽的一槽端,而在所述面殼處于所述遮擋狀態(tài)時(shí)抵觸到所述限位槽的另一槽端。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述容置腔呈圓柱狀設(shè)置,且其直徑等于所述外花鍵的外徑。
8.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)件于所述旋轉(zhuǎn)腔的腔壁開設(shè)安置孔,所述彈性件的一端彈性抵頂至所述安置孔的孔底。
9.如權(quán)利要求8所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)還包括抵頂件,所述彈性件與所述抵頂件連接,并通過所述抵頂件抵頂至所述外花鍵的周壁,所述抵頂件外表面覆有耐磨層。
10.如權(quán)利要求9所述的投影設(shè)備,其特征在于,所述抵頂件的一端置于所述安置孔內(nèi)。
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