[實用新型]用于粉末床熔合的裝置有效
| 申請號: | 201820628456.6 | 申請日: | 2018-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN208644069U | 公開(公告)日: | 2019-03-26 |
| 發明(設計)人: | 亞哈·納吉·艾爾·那加;約翰·拉塞爾·巴克內爾 | 申請(專利權)人: | 戴弗根特技術有限公司 |
| 主分類號: | B22F3/105 | 分類號: | B22F3/105;B33Y30/00;B33Y10/00 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王小衡;任慶威 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 粉末顆粒 能量束 帶電 熔合 粉末材料層 電氣系統 粉末床 施加 粉末材料 構造底板 裝置提供 電壓源 構造板 構造件 偏轉器 散射 支撐 | ||
1.一種用于粉末床熔合的裝置,其特征在于,所述裝置包括:
結構,其支撐具有多個粉末顆粒的粉末材料層;
能量束源,其生成能量束;
偏轉器,其施加所述能量束來熔合所述層中的粉末材料的區域,其中,所述能量束在電氣上使所述粉末顆粒帶電;以及
電氣系統,其在所述結構與帶電的粉末顆粒之間生成電力。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述電氣系統包括將第一電壓施加至所述結構的電壓源。
3.根據權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括與所述偏轉器布置在一起的一個或多個附加結構,并且其中,所述電壓源被配置為將第二電壓施加至所述一個或多個附加結構。
4.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括與所述偏轉器布置在一起的一個或多個附加結構,并且其中,所述電氣系統還包括將電壓施加至所述一個或多個附加結構的電壓源。
5.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,將所述一個或多個附加結構與所述偏轉器布置在一起,以減少對所述能量束的影響。
6.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括控制系統,其與所述偏轉器一起操作以補償所述一個或多個附加結構對所述能量束的影響。
7.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述偏轉器包括屏蔽件,其被配置為帶電的以偏轉所述能量束。
8.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述偏轉器被配置為定位地控制所述能量束源,以施加所述能量束來熔合所述粉末材料的區域。
9.一種用于粉末床熔合的裝置,其特征在于,所述裝置包括:
一個或多個結構,其包括粉末材料支撐結構;
能量束源,其被導向所述粉末材料支撐表面;
偏轉器,其與所述能量束源可操作地耦合;以及
電壓源,其與所述一個或多個結構中的至少一個相連接。
10.根據權利要求9所述的裝置,其特征在于,所述電壓源與所述粉末材料支撐結構相連接。
11.根據權利要求10所述的裝置,其特征在于,所述一個或多個結構還包括至少一個屏蔽件,并且其中,所述電壓源還與所述至少一個屏蔽件中的每一個相連接。
12.根據權利要求9所述的裝置,其特征在于,所述至少一個或多個結構還包括多個屏蔽件,并且其中,所述電壓源與所述屏蔽件中的每一個相連接。
13.根據權利要求12所述的裝置,其特征在于,圍繞在所述偏轉器與所述粉末材料支撐結構之間延伸的法向軸對稱地布置所述屏蔽件。
14.根據權利要求12所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括控制系統,其與所述偏轉器可操作地耦合,以補償所述多個屏蔽件對所述能量束的影響。
15.根據權利要求9所述的裝置,其特征在于,所述偏轉器包括屏蔽件。
16.根據權利要求9所述的裝置,其特征在于,所述偏轉器被配置為定位地控制所述能量束源。
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