[實(shí)用新型]LED金屬蒸鍍襯鍋及其裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820610880.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208104525U | 公開(公告)日: | 2018-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 龔彬彬;王遠(yuǎn)紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湘能華磊光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/30 | 分類號(hào): | C23C14/30 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)沙七源專利代理事務(wù)所(普通合伙) 43214 | 代理人: | 鄭雋;吳婷 |
| 地址: | 423038 湖*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 底座 槽體側(cè)壁 金屬蒸鍍 臺(tái)階凸起 側(cè)壁 外壁 坩堝 本實(shí)用新型 底座外側(cè)壁 金屬電極 坩堝內(nèi)壁 良品率 內(nèi)表面 延伸 黑點(diǎn) 銳角 緊貼 環(huán)繞 垂直 | ||
本實(shí)用新型提供一種LED金屬蒸鍍襯鍋及其裝置,該襯鍋包括:底座;槽體側(cè)壁,實(shí)施槽體側(cè)壁設(shè)置于底座;臺(tái)階凸起,設(shè)置于底座外側(cè)壁上;其中,臺(tái)階凸起環(huán)繞底座并垂直LED金屬蒸鍍襯鍋的軸線向外延伸形成;槽體側(cè)壁的外壁與坩堝內(nèi)壁間隔;槽體側(cè)壁的一端與底座相連接,另一端向底座外延伸,并與底座成銳角。該襯鍋通過設(shè)置側(cè)壁空隙,使該襯鍋的側(cè)壁與坩堝間隔,即可避免襯鍋的外壁與坩堝的內(nèi)表面緊貼,從而實(shí)現(xiàn)所制得金屬電極無黑點(diǎn),并提高所得產(chǎn)品的良品率。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及LED(發(fā)光二極管)技術(shù)領(lǐng)域,具體的涉及一種LED金屬蒸鍍襯鍋及其裝置。
背景技術(shù)
隨著第三代半導(dǎo)體技術(shù)的蓬勃發(fā)展,LED照明以節(jié)能,環(huán)保,亮度高,壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn),成為社會(huì)發(fā)展的焦點(diǎn)。但是相比傳統(tǒng)的白熾燈與熒光燈相比,LED燈具的價(jià)格仍處于偏高水平,所以進(jìn)一步降低LED的生產(chǎn)成本仍是LED照明行業(yè)的重要研究方向。
為了實(shí)現(xiàn)優(yōu)良的導(dǎo)電性與穩(wěn)定性,目前大多數(shù)LED芯片的電極結(jié)構(gòu)的主材料都是黃金和鉑金,但是黃金和鉑金都是貴重金屬,其價(jià)格不菲,導(dǎo)致LED芯片制造成本居高不下。目前各個(gè)LED廠商將提升性能的同時(shí),降低成本作為提升產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力的主要手段。成本是各大芯片廠十分重要的指標(biāo),但同時(shí)品質(zhì)也是不可或缺的關(guān)鍵因素。
在采用高真空電子束鍍膜方式下,利用電子槍產(chǎn)生的電子束,轟擊欲蒸發(fā)的靶材使之受熱蒸發(fā),經(jīng)電子加速極后沉積到晶片材料表面。但在鍍膜過程中因靶材蒸發(fā)角度的問題,導(dǎo)致部分靶材附著于腔體內(nèi)襯板上,在通過回收襯板上貴重金屬回收時(shí),將造成部分貴金屬損耗掉,且存在回收成本。現(xiàn)有金屬蒸鍍襯鍋,以減小口徑來縮減蒸發(fā)角度,并以此來降低蒸鍍過程中的金屬用量。但該襯鍋在使用中會(huì)造成芯片金屬電極出現(xiàn)點(diǎn)狀的雜質(zhì)1’,如圖1所示。該襯鍋雖然能實(shí)現(xiàn)節(jié)約成本,但同時(shí)也降低了所得產(chǎn)品的質(zhì)量。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種LED金屬蒸鍍襯鍋及其裝置,該實(shí)用新型解決了現(xiàn)有襯鍋使用過程中,易造成金屬電極黑點(diǎn),良品率過低的技術(shù)問題。
本實(shí)用新型提供一種LED金屬蒸鍍襯鍋,包括:底座;槽體側(cè)壁,實(shí)施槽體側(cè)壁設(shè)置于底座;臺(tái)階凸起,設(shè)置于底座外側(cè)壁上;其中,臺(tái)階凸起環(huán)繞底座并垂直LED金屬蒸鍍襯鍋的軸線向外延伸形成;槽體側(cè)壁的外壁與坩堝內(nèi)壁間隔、或底座底面與坩堝內(nèi)壁間隔、或槽體側(cè)壁的外壁和底座底面均與坩堝內(nèi)壁間隔;槽體側(cè)壁的一端與底座相連接,另一端向底座外延伸,并與底座成銳角。
進(jìn)一步地,LED金屬蒸鍍襯鍋還包括槽體內(nèi)腔,槽體側(cè)壁圍成用于容納金屬電極的槽體內(nèi)腔。
進(jìn)一步地,槽體內(nèi)腔的槽底外壁上設(shè)置凹槽,凹槽的槽底與坩堝內(nèi)底面間隔。
進(jìn)一步地,凹槽的直徑小于底座的直徑,并設(shè)置于底座的的底面上。
進(jìn)一步地,底座的底面上設(shè)有增高臺(tái),增高臺(tái)垂直底座的底面向外延伸形成,增高臺(tái)形成凹槽的側(cè)壁。
進(jìn)一步地,凹槽的深度為1~2mm。
進(jìn)一步地,臺(tái)階凸起的臺(tái)階面長(zhǎng)度為2~3mm。
本實(shí)用新型的又一方面提供了一種LED金屬蒸鍍裝置,包括如上述的LED金屬蒸鍍襯鍋和坩堝,LED金屬蒸鍍襯鍋容納設(shè)置于坩堝內(nèi);LED金屬蒸鍍襯鍋內(nèi)設(shè)有容納金屬電極的槽體內(nèi)腔;LED金屬蒸鍍襯鍋的外側(cè)壁與坩堝的內(nèi)側(cè)壁相間隔,形成側(cè)壁空隙。
進(jìn)一步地,槽體內(nèi)腔的外底面與坩堝的內(nèi)底面相間隔,形成底部空隙。
進(jìn)一步地,側(cè)壁空隙的垂直距離為1~5mm;所述底部空隙的垂直距離為1~5mm。
本實(shí)用新型的技術(shù)效果:
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





