[實用新型]一種用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴有效
| 申請號： | 201820599742.4 | 申請日： | 2018-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN208297928U | 公開（公告）日： | 2018-12-28 |
| 發明（設計）人： | 不公告發明人 | 申請（專利權）人： | 長鑫存儲技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/30 | 分類號： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海市錦天城律師事務所 31273 | 代理人： | 何金花 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 噴頭 噴嘴 分散孔 顯影液 負型 光刻工藝 供給管 納米級 噴灑式 噴頭體 散射狀 圓中心 分配 本實用新型 便于維修 有效實現 噴灑面 中心處 光刻 連通 申請 | ||
1.一種用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，包括供給管與噴頭，用以提供負型顯影液；所述噴頭與所述供給管連通；其特征在于，所述噴頭包括一噴灑式噴頭體，所述噴灑式噴頭體的噴灑面具有處于中心處的中央分散孔、以所述中心為圓中心的第一環路徑上呈散射狀分配的若干第一環分散孔、以及以所述中心為圓中心的第二環路徑上呈散射狀分配的若干第二環分散孔，所述第一環路徑的內徑小于所述第二環路徑的內徑，所述第二環分散孔的孔徑大于所述第一環分散孔的孔徑，所述第一環分散孔的孔徑大于所述中央分散孔的孔徑，并且所述中央分散孔至所述第一環分散孔為第一連線，所述中央分散孔至所述第二環分散孔為第二連線，所述第二連線位于相鄰兩個所述第一連線之間且互相不重迭。
2.根據權利要求1所述的用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，其特征在于，所述第二連線均分相鄰兩個所述第一連線之間的夾角。
3.根據權利要求1或2所述的用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，其特征在于，所述噴灑式噴頭體的所述噴灑面的直徑介于80-120mm。
4.根據權利要求1或2所述的用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，其特征在于，所述第二環分散孔的任一孔數皆不低于四個。
5.根據權利要求1或2所述的用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，其特征在于，所述中央分散孔的直徑為0.4-0.8mm，若干第一環分散孔的直徑為0.6-1.0mm，若干第二環分散孔的直徑1.2-1.4mm。
6.根據權利要求5所述的用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，其特征在于，所述第一環路徑直徑為38-42mm，所述第二環路徑直徑較所述第一環路徑直徑大26-34mm。
7.根據權利要求1所述的用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，其特征在于，還包括以所述中心為圓中心的第三環路徑上呈散射狀分配的若干第三環分散孔；所述若干第三環分散孔與所述若干第一環分散孔對應設置。
8.根據權利要求7所述的用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，其特征在于，所述第三環路徑直徑較所述第二環路徑所在直徑大23-42mm。
9.根據權利要求1所述的用于實現改善納米級光刻工藝性能的噴嘴，其特征在于，所述供給管包括第一供給管與第二供給管，所述第一供給管與所述中央分散孔、所述若干第二環分散孔連通，所述第二供給管與所述若干第一環分散孔連通。
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