[實(shí)用新型]雙面鍍膜設(shè)備及其載板檢測單元有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820596683.5 | 申請日: | 2018-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN208472186U | 公開(公告)日: | 2019-02-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊斌 | 申請(專利權(quán))人: | 君泰創(chuàng)新(北京)科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李海建 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 載板 工作腔 工藝腔 檢測 本實(shí)用新型 雙面鍍膜 設(shè)置檢測裝置 鍍膜效果 鍍膜裝置 檢測裝置 | ||
1.一種載板檢測單元,其特征在于,包括:
用于設(shè)置在工藝腔(6)之前的工作腔;
設(shè)置于所述工作腔內(nèi),用于檢測載板(1)內(nèi)是否有碎片的檢測裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的載板檢測單元,其特征在于,所述檢測裝置為回歸反射型檢測裝置,其包括用于設(shè)置在所述載板(1)一側(cè)的傳感器(42)及用于設(shè)置在所述載板(1)另一側(cè)的反射器(41)。
3.如權(quán)利要求2所述的載板檢測單元,其特征在于,所述傳感器(42)設(shè)置于所述工作腔的底部,所述反射器(41)設(shè)置于所述工作腔的頂部。
4.如權(quán)利要求1所述的載板檢測單元,其特征在于,所述檢測裝置為對射型檢測裝置,其包括用于設(shè)置在所述載板(1)一側(cè)的發(fā)射器及用于設(shè)置在所述載板(1)另一側(cè)接收器。
5.如權(quán)利要求4所述的載板檢測單元,其特征在于,所述發(fā)射器設(shè)置于所述工作腔的底部,所述接收器設(shè)置于所述工作腔的頂部。
6.如權(quán)利要求1所述的載板檢測單元,其特征在于,所述工作腔內(nèi)具有帶動(dòng)所述載板(1)移動(dòng)的傳動(dòng)輪(2);
所述檢測裝置固定設(shè)置于所述工作腔內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的載板檢測單元,其特征在于,所述檢測裝置設(shè)置于所述工作腔的前側(cè);
所述工作腔的前側(cè)為所述載板(1)進(jìn)入所述工作腔的一側(cè)。
8.如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的載板檢測單元,其特征在于,所述檢測裝置的數(shù)量為多個(gè)且與所述載板(1)的電池片列數(shù)相同;
沿所述載板(1)的傳輸方向排列的所述電池片為一列。
9.一種雙面鍍膜設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的載板檢測單元。
10.如權(quán)利要求9所述的雙面鍍膜設(shè)備,其特征在于,所述工作腔為前置隔離腔(4)或前置緩沖腔(5)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





