[實用新型]MEMS器件

有效

• 申請號: 201820576800.1
• 申請日: 2018-04-20
• 公開（公告）號: CN208190922U
• 公開（公告）日: 2018-12-04
• 發明（設計）人: 孫福河;聞永祥;劉琛;慕艾霖
• 申請（專利權）人: 杭州士蘭集成電路有限公司
• 主分類號: H04R19/04
• 分類號: H04R19/04
• 代理公司: 北京成創同維知識產權代理有限公司 11449
• 代理人: 蔡純;李向英

1.一種MEMS器件，其特征在于，包括：

襯底，所述襯底具有第一空腔；

第一犧牲層，位于所述襯底上，所述第一犧牲層中具有第二空腔；

第一背極板層，位于所述第一犧牲層上，所述第一背極板層的至少一部分由所述第一犧牲層支撐；

第二犧牲層，位于所述第一背極板層上，所述第二犧牲層中具有第三空腔；

振膜層，位于所述第二犧牲層上，所述振膜層的至少一部分由所述第二犧牲層支撐，使得所述振膜層與所述第一背極板層形成第一電容器；

第三犧牲層，位于所述振膜層上，所述第三犧牲層中具有第四空腔；

第二背極板層，位于所述第三犧牲層上，所述第二背極板層的至少一部分由所述第三犧牲層支撐，使得所述第二背極板層與所述振膜層形成第二電容器，

其中，所述MEMS器件還包括用于限定所述第二至第四空腔至少之一的橫向尺寸的多個停止層。

2.根據權利要求1所述的MEMS器件，其特征在于，所述第一背極板層包括第一開口，使得所述第二空腔與所述第三空腔連通。

3.根據權利要求1所述的MEMS器件，其特征在于，所述第二背極板層包括第二開口，使得所述第四空腔與外界環境連通。

4.根據權利要求1所述的MEMS器件，其特征在于，所述多個停止層包括：

第一停止層，位于所述第二空腔內壁，以所述第一停止層為硬掩模，形成所述第二空腔；

第二停止層，位于所述第三空腔內壁，以所述第二停止層為硬掩模，形成所述第三空腔；

第三停止層，位于所述第四空腔的內壁，以所述第三停止層為硬掩模，形成所述第四空腔。

5.根據權利要求4所述的MEMS器件，其特征在于，所述第一停止層和所述第一背極板層圍繞所述第二空腔，所述第二停止層和所述振膜層圍繞所述第三空腔，所述第三停止層和所述第二背極板層圍繞所述第四空腔。

6.根據權利要求4所述的MEMS器件，其特征在于，所述第一停止層、所述第二停止層和所述第三停止層沿著垂直于主平面的方向彼此對準。

7.根據權利要求1所述的MEMS器件，其特征在于，還包括：鈍化層，至少覆蓋所述第三犧牲層的表面以及所述第二背極板層鄰近所述第三犧牲層的一部分表面。

8.根據權利要求1所述的MEMS器件，其特征在于，還包括：

防粘附層，所述防粘附層位于所述第一空腔、所述第二空腔、所述第三空腔和所述第四空腔至少之一的內壁。

9.根據權利要求7所述的MEMS器件，其特征在于，還包括：

第一導電通道，從上至下穿過所述鈍化層、所述第三犧牲層、所述第二犧牲層，到達所述第一背極板層；

第二導電通道，從上至下穿過所述鈍化層和所述第三犧牲層，到達所述振膜層；以及

第三導電通道，從上至下穿過所述鈍化層，到達所述第二背極板層。