[實用新型]印染廢水深度處理回用及零排放裝置

有效

• 申請號: 201820564327.5
• 申請日: 2018-04-19
• 公開（公告）號: CN208234724U
• 公開（公告）日: 2018-12-14
• 發明（設計）人: 馮雷;孫繼龍;葉曉;張守健
• 申請（專利權）人: 山東中科恒源環境工程有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14
• 代理公司: 青島發思特專利商標代理有限公司 37212
• 代理人: 馬俊榮;趙真真

1.一種印染廢水深度處理回用及零排放裝置，其特征在于：二級處理出水儲罐(1)與集水池(2)、混凝沉淀池(4)、臭氧氧化池(5)、曝氣生物濾池(7)、超濾裝置(8)、反滲透裝置(9)和回用水箱(10)依次相連，混凝沉淀池(4)與絮凝劑加料器(3)相連；臭氧氧化池(5)與臭氧制備裝置(17)相連；曝氣生物濾池(7)與鼓風機(6)相連；反滲透裝置(9)與濃水納濾裝置(11)、MVR蒸發器(12)和廢水處理站(13)依次相連；濃水納濾裝置(11)還與超濾裝置(8)和反滲透裝置(9)之間的管線相連。

2.根據權利要求1所述的印染廢水深度處理回用及零排放裝置，其特征在于：MVR蒸發器(12)與結晶物處理系統(14)相連。

3.根據權利要求1所述的印染廢水深度處理回用及零排放裝置，其特征在于：混凝沉淀池(4)、曝氣生物濾池(7)和超濾裝置(8)均與污泥濃縮池(15)相連。

4.根據權利要求3所述的印染廢水深度處理回用及零排放裝置，其特征在于：污泥濃縮池(15)還與隔膜壓濾機(16)相連。