[實用新型]振蕩結構和光學設備有效
| 申請號: | 201820561690.1 | 申請日: | 2018-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN208283647U | 公開(公告)日: | 2018-12-25 |
| 發明(設計)人: | R·卡爾米納蒂;S·克斯坦蒂尼;M·卡米納蒂 | 申請(專利權)人: | 意法半導體股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B26/08 | 分類號: | G02B26/08;B81B3/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 王茂華;董典紅 |
| 地址: | 意大利阿格*** | 國省代碼: | 意大利;IT |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 扭轉彈性元件 移動元件 振蕩結構 光學設備 不直接接觸 動態變形 耦合結構 平面的 旋轉軸 耦合 振蕩 扭曲 申請 | ||
1.一種振蕩結構,其特征在于,所述振蕩結構包括:
第一扭轉彈性元件和第二扭轉彈性元件,限定旋轉軸,
移動元件,插入在所述第一扭轉彈性元件和所述第二扭轉彈性元件之間,所述移動元件被配置為由于所述第一扭轉彈性元件和所述第二扭轉彈性元件的扭曲而繞所述旋轉軸旋轉,
其中,所述移動元件、所述第一扭轉彈性元件和所述第二扭轉彈性元件位于第一平面上并且彼此分離,以及
耦合結構,位于與所述第一平面不同的第二平面上,其中,所述移動元件、所述第一扭轉彈性元件和所述第二扭轉彈性元件通過所述耦合結構被機械地耦合在一起。
2.根據權利要求1所述的振蕩結構,其特征在于,所述移動元件、所述第一扭轉彈性元件和所述第二扭轉彈性元件專有地通過所述耦合結構被機械地耦合在一起。
3.根據權利要求1所述的振蕩結構,其特征在于,所述耦合結構的所述第二平面平行于所述第一平面并且在低于所述第一平面的高度處延伸。
4.根據權利要求1所述的振蕩結構,其特征在于,所述耦合結構包括環形部分,所述環形部分包含一個或多個通孔孔徑。
5.根據權利要求1所述的振蕩結構,其特征在于,所述第一扭轉彈性元件被機械地連接到所述耦合結構的第一耦合區域,其中所述第二扭轉彈性元件被機械地連接到所述耦合結構的第二耦合區域,并且其中所述移動元件被機械地連接到所述耦合結構的第三耦合區域和第四耦合區域,所述第一耦合區域、所述第二耦合區域、所述第三耦合區域和所述第四耦合區域彼此間隔一定距離地延伸。
6.根據權利要求5所述的振蕩結構,其特征在于,所述第一耦合區域和所述第二耦合區域沿所述旋轉軸延伸,并且其中所述第三耦合區域和所述第四耦合區域沿與所述旋轉軸正交的相應軸延伸。
7.根據權利要求5所述的振蕩結構,其特征在于,所述第一耦合區域、所述第二耦合區域、所述第三耦合區域和所述第四耦合區域被布置成使得彼此之間的距離最大化。
8.根據權利要求5所述的振蕩結構,其特征在于,所述耦合結構包括橢圓環形部分,所述第一耦合區域、所述第二耦合區域、所述第三耦合區域和所述第四耦合區域被布置在由描述所述橢圓環形部分的橢圓的短軸和長軸形成的交叉的頂點處。
9.根據權利要求5所述的振蕩結構,其特征在于,所述耦合結構包括具有斜角的四邊形環形部分,所述第一耦合區域、所述第二耦合區域、所述第三耦合區域和所述第四耦合區域包括描述所述四邊形環形部分的四邊形的長邊和短邊的中點。
10.根據權利要求5所述的振蕩結構,其特征在于,在所述第三耦合區域和所述第四耦合區域處,將所述耦合結構的周界區域布置在所述移動元件之上。
11.根據權利要求5所述的振蕩結構,其特征在于,在所述第三耦合區域和所述第四耦合區域處,所述耦合結構的外邊緣在至少一個點處與所述中心部分的相應外邊緣重合。
12.根據權利要求5所述的振蕩結構,其特征在于,所述耦合結構還包括在所述第二平面中位于所述第一耦合區域和所述第二耦合區域之間的支撐部分,所述支撐部分被耦合到所述移動元件。
13.根據權利要求1所述的振蕩結構,其特征在于,還包括位于所述第一平面和所述第二平面之間的第三平面上的耦合接口區域,所述耦合接口區域將所述耦合結構分別與所述第一扭轉彈性元件、所述第二扭轉彈性元件和所述移動元件相鏈接。
14.根據權利要求1所述的振蕩結構,其特征在于,所述移動元件包含反射元件,所述振蕩結構形成微反射鏡。
15.一種光學設備,其特征在于,所述光學設備包括根據權利要求14所述的微反射鏡。
16.根據權利要求15所述的光學設備,其特征在于,還包括:
光源,所述光源被配置為產生入射在所述反射元件上的光束,以及
圖像生成模塊,所述圖像生成模塊被可操作地耦合到所述振蕩結構以產生與由所述反射元件反射的光束相關聯的圖像的一部分。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于意法半導體股份有限公司,未經意法半導體股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820561690.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





