[實用新型]吊具有效
| 申請號: | 201820555665.2 | 申請日: | 2018-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN208120538U | 公開(公告)日: | 2018-11-20 |
| 發明(設計)人: | 周二磊;王迪;楊依輝;鄧勝福 | 申請(專利權)人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | B66C1/10 | 分類號: | B66C1/10;B66C13/06 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 側邊 吊具 掛部 組吊 本實用新型 多邊形體 被吊物 懸吊件 懸吊 支架 對稱 吊放 均勻受力 相對兩側 吊掛部 中空的 受力 松動 解體 支撐 | ||
本實用新型涉及一種吊具,適用于懸吊中空的多邊形體,所述多邊形體至少具有三條側邊,所述吊具包括支架,所述支架上設置有多組吊掛部,所述吊掛部的數量不小于所述側邊的數量,每組吊掛部包括用于設置在同一條側邊之相對兩側的兩個懸吊件,任意一組吊掛部的兩個懸吊件能夠對所述同一條側邊進行對稱支撐而實現懸吊。本實用新型的吊具令被吊物內外側同時對稱均勻受力,避免因內外側單側受力而導致被吊物出現彎曲、松動、解體等風險,以此確保吊放過程的安全性和可靠性。
技術領域
本實用新型涉及半導體技術領域,特別涉及一種吊具。
背景技術
在化學氣相沉積(Chemical Vapor-Deposition,CVD)工藝中,襯底設置在基座上進行氣相沉積。其中,為了減少基座上材料的沉積,基座的暴露區域覆蓋有陰影框架(Shadow frame)。由于陰影框架體積大,一般通過專用吊具進行取放。
圖1提供了一種專用吊具1與陰影框架2相結合時的情況示意,如圖1所示,所述專用吊具1包括四邊形結構的邊框體,該邊框體于陰影框架2的內側進行支撐并采用“四角八點”的支撐模式。具體的,所述邊框體的每個組成邊框01上設置有兩個可旋轉的懸臂02,總共八個懸臂02一起配合來吊放陰影框架2。
如圖2所示,所述陰影框架2在理想狀態下,需保持水平而不能向外側彎曲。但是,如圖3所示,所述陰影框架02在實際狀態下,由于重力作用而向外側彎曲。因此,前述專用吊具1將導致被吊物尤其是組裝件(例如鋁銷連接的陶瓷組件),出現變形、松動,從而在使用過程中易發生解體掉落的問題,安全性低。
因此,有必要開發一種能夠保證被吊物在吊放過程中不發生傾斜的吊具。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種吊具,能夠避免現有技術中因被吊物單側受力所引起的問題,以提升吊具使用的安全性和可靠性。
為實現上述目的,本實用新型提供了一種吊具,適用于懸吊中空的多邊形體,所述多邊形體至少具有三條側邊,所述吊具包括支架,所述支架上設置有多組吊掛部,所述吊掛部的數量不小于所述側邊的數量;每組吊掛部包括用于設置在同一條側邊之相對兩側的兩個懸吊件,任意一組吊掛部的兩個懸吊件能夠對所述同一條側邊進行對稱支撐而實現懸吊。
可選的,所述多邊形體的每一條側邊設置有至少兩組吊掛部,所述至少兩組吊掛部共同配合對稱支撐起同一條側邊。
可選的,任意一組吊掛部的兩個懸吊件對稱設置在所述支架上。
可選的,每個懸吊件能夠作360°旋轉運動。
可選的,所述懸吊件具有延伸臂,所述延伸臂的一部分或全部長度用于支撐所述側邊。
可選的,所述延伸臂用于沿所述側邊的寬度方向支撐所述側邊,且所述延伸臂支撐所述側邊的尺寸為所述側邊寬度的三分之一。
可選的,所述懸吊件還具有支撐臂,所述支撐臂的一端與所述支架連接,另一端與所述延伸臂連接,所述支撐臂與所述延伸臂相垂直。
可選的,所述多邊形體具有四條側邊以形成四邊形結構,所述四邊形結構用于覆蓋基座的暴露區域,且所述基座用于承載待氣相沉積的襯底。
可選的,所述四邊形結構為陶瓷組件,所述陶瓷組件的相鄰側邊通過銷軸連接。
可選的,所述支架包括橫梁、縱梁和過渡梁,所述橫梁沿第一方向布置,所述縱梁沿第二方向布置,所述第一方向垂直于第二方向;所述橫梁的一端連接所述縱梁,所述縱梁上設置至少一根所述過渡梁;所述過渡梁沿第一方向布置,且一根所述過渡梁上設置一組吊掛部。
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