[實(shí)用新型]一種繞線型金屬氧化膜電阻器

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820524936.8
• 申請(qǐng)日: 2018-04-13
• 公開（公告）號(hào): CN207993594U
• 公開（公告）日: 2018-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 帥冬生
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞市創(chuàng)嘉電子有限公司
• 主分類號(hào): H01C1/034
• 分類號(hào): H01C1/034;H01C1/036;H01C1/144;H01C1/148;H01C1/16;H01C3/20;H01C7/00;H01C17/00
• 代理公司: 深圳市科吉華烽知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44248
• 代理人: 朱曉光

本實(shí)用新型公開了一種繞線型金屬氧化膜電阻器，包括一陶瓷芯的圓周表面涂覆有金屬氧化膜電阻層，在金屬氧化膜電阻層上涂覆絕緣層，絕緣層之外繞有電阻絲；電阻絲的左端頭與左金屬端帽在左焊接點(diǎn)處焊接和右端頭與右金屬端帽在右焊接點(diǎn)處焊接之后，在電阻絲、左金屬端帽和右金屬端帽之外表面涂覆絕緣包裹層。本專利提供的繞線型金屬氧化膜電阻器，與傳統(tǒng)線繞電阻器相比，相同的體積，功率擴(kuò)大一倍，在遇到電流嚴(yán)重超限，由于金屬氧化膜電阻層、絕緣層和電阻絲的三重包裹，電阻介質(zhì)燒斷時(shí)本實(shí)用新型的電阻器只會(huì)斷路不通，不會(huì)出現(xiàn)劇烈的爆炸現(xiàn)象，不會(huì)對(duì)其他器件造成傷害，也不會(huì)污染電路板上空間環(huán)境，大大增強(qiáng)了使用運(yùn)行安全。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及電子元器件制造技術(shù)，尤其涉及電阻器的制造技術(shù)，特別是繞線型金屬氧化膜電阻器。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，較大功率的電阻器多為繞線電阻，即在純粹的陶瓷棒上繞制電阻絲，然后封裝。

上述功率電阻器有一個(gè)致命的缺點(diǎn)：一旦過流，即在電阻兩端所施加的電壓超過額定值較多時(shí)，在電阻器中間部位，因散熱較兩端為差，此時(shí)的電阻絲成了電熱絲，會(huì)燒紅，而陶瓷棒在局部劇烈加熱的情況下會(huì)炸裂斷開，電阻絲沒有了依托和導(dǎo)熱體，進(jìn)一步發(fā)熱，會(huì)燒斷；于是在該電阻器的周圍就形成“爆炸現(xiàn)場(chǎng)”，會(huì)危及其他電子元器件安全，這是人們所希望克服的弊端。

回顧電阻器的制造工藝，德國(guó)維斯海電子有限公司申請(qǐng)的中國(guó)發(fā)明專利，201180057749 . 4號(hào)，名稱為“電氣功率電阻器”所述公開的技術(shù)方案為：一種具有多個(gè)金屬電阻器板的堆疊的電氣功率電阻器。每一電阻器板具有至少一個(gè)曲折結(jié)構(gòu)，該曲折結(jié)構(gòu)是由多個(gè)間隔地相互連接的橫向腹板所形成。在堆疊方向彼此相接的電阻器板相對(duì)于彼此旋轉(zhuǎn) 90o。

分析該專利技術(shù)，可知該電阻器是超大型器件，不是可以焊接在電路板上的電子器件。

再如，德國(guó)賀利氏傳感技術(shù)有限公司申請(qǐng)的200810148837 . 5號(hào)中國(guó)發(fā)明專利，名稱為“涂覆線和薄膜電阻器”，該實(shí)用新型在保持內(nèi)核和涂層的分離的相的同時(shí)，具有軟焊料的涂覆線是可焊接的。該技術(shù)用銀電鍍涂覆 100 μm ～ 400μm 厚的鎳線。該發(fā)明的涂層是由銀或玻璃或陶瓷或這些材料的混合物制成的，涂層的外側(cè)是由玻璃或陶瓷或這些材料的混合物制成的。

分析該專利技術(shù)，認(rèn)為該技術(shù)與本實(shí)用新型所要解決的問題不同，即目的不同。

再如，東莞市福德電子有限公司所申請(qǐng)的201010280534.6號(hào)發(fā)明專利，名稱為一種高阻值金屬氧化膜電阻及其制作方法，其技術(shù)方案為“高阻值金屬氧化膜電阻包括一陶瓷基體、形成在所述陶瓷基體上的皮膜、位于陶瓷基體兩端的鐵帽以及引線，所述皮膜包括內(nèi)層皮膜和外層皮膜，其中內(nèi)層皮膜由靶材通過真空直流濺射形成，外層皮膜由靶材通過離子電源加射頻濺射形成。本發(fā)明可制得獨(dú)特的雙層膜結(jié)構(gòu)電阻體，外層皮膜實(shí)際上是一層致密的金屬氧化膜，對(duì)內(nèi)層皮膜起到很好的保護(hù)作用，避免其被進(jìn)一步氧化；同時(shí)內(nèi)層皮膜與外層皮膜之間形成并聯(lián)關(guān)系，能使電阻器的阻值獲得更大的可調(diào)節(jié)范圍；因此，該技術(shù)制成的金屬氧化膜電阻器性能穩(wěn)定，精密度高，阻值可超過100KΩ，高達(dá)3.9 兆歐。”

通過分析可以看出，該專利是與本專利申請(qǐng)最為接近的技術(shù)，但其工藝雖然是涂覆兩層金屬氧化膜電阻層，由于兩層之間并不絕緣，且涂覆工藝也都相同，僅是濺射材料不同，實(shí)際上可以將兩層濺射涂覆看成為一層，因?yàn)閮蓪又g并無(wú)明顯的界限，依該專利的發(fā)明目的所言，外層金屬氧化膜主要是為了包裹內(nèi)層，使內(nèi)層不被氧化，那么可以理解為在一層金屬氧化膜之外涂覆外包裹層，該電阻器的性能并無(wú)新意，更主要的，該電阻器的方案適于極高阻值幾百KΩ～若干MΩ的電阻器，在如此大的阻值下，電子裝置中罕見使用幾十萬(wàn)伏高電壓的情況，根本不會(huì)出現(xiàn)電流過大燒斷電阻的問題。

而本實(shí)用新型專利所面對(duì)是幾個(gè)歐姆以下低阻值電阻被大電流燒斷后，如何實(shí)現(xiàn)不爆炸的問題。

所以該專利技術(shù)方案對(duì)解決“低阻值電阻被大電流燒斷后，如何實(shí)現(xiàn)不爆炸的問題”沒有借鑒意義。