[實用新型]一種密封反射鏡調節(jié)架裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820486819.7 | 申請日: | 2018-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN208110146U | 公開(公告)日: | 2018-11-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 梁宗森;陳國棟;呂洪杰;翟學濤;楊朝輝;高云峰 | 申請(專利權)人: | 大族激光科技產業(yè)集團股份有限公司;深圳市大族數控科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B7/182 | 分類號: | G02B7/182;B23K26/70;B23K26/064 |
| 代理公司: | 深圳市道臻知識產權代理有限公司 44360 | 代理人: | 陳琳 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鏡腔 反射鏡調節(jié) 調節(jié)組件 光路 密封 本實用新型 第二密封件 密封件 封蓋 高密封性能 光學元件 激光設備 密封條件 使用壽命 雙重密封 反射鏡 密封蓋 合圍 空腔 潔凈 保證 維護 | ||
本實用新型公開了一種密封反射鏡調節(jié)架裝置,包括鏡腔、調節(jié)組件和密封蓋,所述調節(jié)組件安裝在鏡腔和密封蓋扣合時合圍成的空腔內,所述鏡腔與調節(jié)組件的接觸面設有第一密封件,所述鏡腔與密封蓋的接觸面設有第二密封件。本實用新型通過第一密封件和第二密封件的雙重密封,實現(xiàn)光路中的密封反射鏡調節(jié)架裝置的高密封性能,保證光學元件達到設計的性能,延長激光設備使用壽命。維護光路的過程中,調節(jié)反射鏡是在密封條件下進行的,保證光路內部潔凈。
技術領域
本發(fā)明涉及一種用于激光加工設備光學系統(tǒng)的密封反射鏡調節(jié)架裝置。
背景技術
激光技術的發(fā)展,最直接體現(xiàn)在激光功率的持續(xù)提高,有力地支持著激光應用行業(yè)的發(fā)展。高功率密度的激光束對光學元件的抗損傷性能提出越來越嚴苛的要求。光學元件的性能除了自身的材料及鍍膜之外,很大程度依賴于環(huán)境的潔凈度,被塵埃等污染的光學元件性能大幅度下降,遠遠偏離設計標準。密封性差的激光設備,其光學元件比較容易受到塵埃等污染,需要停機保養(yǎng)與維護的時間間隔短,嚴重影響生產效率。因此,在激光設備集成設計中,嚴格的光路密封設計是保證設備光學性能的重要方法之一。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種密封性能好、結構堅固緊湊、集成方便、容易調節(jié)及易于維護的反射鏡調節(jié)架裝置。
為解決上述技術問題,本實用新型提供的技術方案為:
一種密封反射鏡調節(jié)架裝置,包括鏡腔、調節(jié)組件和密封蓋,所述調節(jié)組件安裝在鏡腔和密封蓋扣合時合圍成的空腔內,所述鏡腔與調節(jié)組件的接觸面設有第一密封件,所述鏡腔與密封蓋的接觸面設有第二密封件。
進一步地,所述鏡腔包括第一密封面和第二密封面,所述第一密封件抵觸在第一密封面上,所述第二密封件抵觸在第二密封面上。
進一步地,所述鏡腔還包括安裝面,安裝面設置于所述第一密封面和第二密封面之間,所述調節(jié)組件通過連接件安裝在安裝面上。
進一步地,所述第二密封件固定在所述密封蓋上,所述第二密封面上開設有密封件槽,所述鏡腔和密封蓋扣合時,所述第二密封件容置于密封件槽內。
進一步地,所述第一密封件和第二密封件為密封圈。
進一步地,所述密封蓋與鏡腔配合后整體呈立方體或長方體。
進一步地,所述密封蓋與鏡腔由金屬材料制成。
進一步地,所述調節(jié)組件包括調節(jié)板、反射鏡和手動旋緊塊,所述反射鏡安裝到調節(jié)板上,所述手動旋緊塊轉動的安裝在調節(jié)板上,可壓緊反射鏡,所述第一密封件固定在調節(jié)板上。
進一步地,所述手動旋緊塊與反射鏡之間設置有用于均勻壓力和密封的緩沖圈。
進一步地,所述鏡腔還包括與密封導光管相匹配的導光孔,所述導光孔為螺紋孔。
本實用新型的有益效果:本實用新型通過第一密封件和第二密封件的雙重密封,實現(xiàn)光路中的密封反射鏡調節(jié)架裝置的高密封性能,保證光學元件達到設計的性能,延長激光設備使用壽命。維護光路的過程中,調節(jié)反射鏡是在密封條件下進行的,保證光路內部潔凈。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例中密封反射鏡調節(jié)架裝置的爆炸圖;
圖2為鏡腔的立體結構示意圖;
圖3為調節(jié)組件的立體結構示意圖;
圖4為密封反射鏡調節(jié)架裝置在激光切割機光路的一種應用示意圖。
附圖標記包括:
100—密封反射鏡調節(jié)架裝置 110—鏡腔
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