[實(shí)用新型]OLED蒸鍍坩堝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820486258.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208136321U | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 瞿建強(qiáng);瞿一濤;黃仕強(qiáng);陸彬鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江陰市光科真空機(jī)械有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 江陰義海知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32247 | 代理人: | 王威欽 |
| 地址: | 214400 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸鍍 噴嘴 蒸汽 噴出 噴口 冷凝 本實(shí)用新型 坩堝本體 噴口處 坩堝 鋼管 堵塞 噴口堵塞 轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置 電渦流 溢出 配合 | ||
本實(shí)用新型公開了OLED蒸鍍坩堝,包括坩堝本體和坩堝本體上設(shè)置的蒸鍍蒸汽噴出結(jié)構(gòu),蒸鍍蒸汽噴出結(jié)構(gòu)包括用于蒸鍍蒸汽噴出或溢出的噴口,蒸鍍蒸汽噴出結(jié)構(gòu)上設(shè)置有防噴口堵塞機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型通過噴嘴轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置降低了噴嘴處降溫速度,這樣在整個(gè)蒸鍍過程中只需控制好轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)速,就能實(shí)現(xiàn)噴嘴其噴口處始終處于一個(gè)還算較高的溫度,這樣避免了蒸鍍蒸汽在經(jīng)過噴嘴時(shí)冷凝而堵塞噴口的情況;或者通過將噴嘴采用鋼管并配合電渦流的方式使得噴口處鋼管的溫度達(dá)到防止蒸鍍蒸汽在噴口冷凝的溫度,也避免了蒸鍍蒸汽在經(jīng)過噴嘴時(shí)冷凝而堵塞噴口的情況。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及OLED蒸鍍坩堝。
背景技術(shù)
OLED,即有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode),又稱為有機(jī)電激光顯示(Organic Electroluminesence Display,OLED)。因?yàn)榫邆漭p薄、省電等特性,因此在數(shù)碼產(chǎn)品的顯不屏上得到了廣泛應(yīng)用,并且具有較大的市場(chǎng)潛力,目前世界上對(duì)OLED的應(yīng)用都聚焦在平板顯不器上,因?yàn)镺LED是唯一在應(yīng)用上能和TFT-LCD相提并論的技術(shù),OLED是目前所有顯示技術(shù)中,唯一可制作大尺寸、高亮度、高分辨率軟屏的顯示技術(shù),可以做成和紙張一樣的厚度;其中,在OLED的制作流程中,真空鍍膜工藝是OLED制作流程中一個(gè)很重要的工藝,真空鍍膜是指在真空腔體中把蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)或用加速離子轟擊濺射,沉積到基片表面形成單層或多層薄膜。因?yàn)樗顷P(guān)系到OLED的品質(zhì)高低及壽命長(zhǎng)短的最重要因素之一,所以應(yīng)用于真空鍍膜工藝上的各種設(shè)備必須滿足真空鍍膜工藝的精度要求。而在蒸鍍中蒸鍍坩堝是應(yīng)用得較多的一個(gè)設(shè)備,現(xiàn)有的技術(shù)中,蒸鍍鉗鍋包括坩堝本體和噴嘴,坩堝本體中設(shè)置有加熱裝置,而噴嘴處沒有加熱裝置,因此蒸鍍過程中蒸鍍材料容易沉積在噴嘴口處,導(dǎo)致噴嘴堵塞,影響到正常的蒸鍍速率,使得蒸鍍的時(shí)間變長(zhǎng)。此外,在蒸鍍過程中蒸鍍材料在噴嘴口處冷卻后,部分會(huì)回流到坩堝內(nèi),當(dāng)再次被加熱蒸發(fā)時(shí),會(huì)以大分子或分子團(tuán)的形式進(jìn)行蒸鍍,影響到膜層的均勻性,并且經(jīng)過一次加熱蒸發(fā)的材料,往往會(huì)部分變性,再次蒸鍍這些回流材料會(huì)使顯示器件中的膜層性能受到影響。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于,克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供OLED蒸鍍坩堝,實(shí)現(xiàn)噴嘴其噴口處始終處于一個(gè)還算較高的溫度,可以避免蒸鍍蒸汽在經(jīng)過噴嘴時(shí)冷凝而堵塞噴口的情況。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)OLED蒸鍍坩堝,包括坩堝本體和坩堝本體上設(shè)置的蒸鍍蒸汽噴出結(jié)構(gòu),蒸鍍蒸汽噴出結(jié)構(gòu)包括用于蒸鍍蒸汽噴出或溢出的噴口,蒸鍍蒸汽噴出結(jié)構(gòu)上設(shè)置有防噴口堵塞機(jī)構(gòu)。防噴口堵塞機(jī)構(gòu)的設(shè)置能實(shí)現(xiàn)噴嘴其噴口處始終處于一個(gè)還算較高的溫度,可以避免蒸鍍蒸汽在經(jīng)過噴嘴時(shí)冷凝而堵塞噴口的情況。
進(jìn)一步的技術(shù)方案是,蒸鍍蒸汽噴出結(jié)構(gòu)為管狀噴嘴,噴口為噴嘴的兩個(gè)端口,防噴口堵塞機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在坩堝本體上頂板內(nèi)的轉(zhuǎn)軸,轉(zhuǎn)軸上連接若干個(gè)噴嘴,相鄰噴嘴設(shè)有間距,所有噴嘴在轉(zhuǎn)軸上擺放位置相同,轉(zhuǎn)軸的軸線與噴嘴的軸線垂直設(shè)置,轉(zhuǎn)軸連接在噴嘴外周面其軸向的中間位置,上頂板上設(shè)置呈矩形的噴嘴旋轉(zhuǎn)孔,噴嘴旋轉(zhuǎn)孔其長(zhǎng)與噴嘴的高相適配,噴嘴旋轉(zhuǎn)孔其寬與噴嘴的最大外徑相適配,噴嘴旋轉(zhuǎn)孔的數(shù)量與噴嘴的數(shù)量一致;轉(zhuǎn)軸有一端伸出上頂板的側(cè)邊并與傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的輸出軸相連。這樣將原先的噴嘴長(zhǎng)度增大一倍,多出來(lái)的部分設(shè)置在坩堝本體內(nèi),這樣噴嘴下端靠近加熱源,溫度較高,噴嘴可以采用比坩堝本體導(dǎo)熱系數(shù)高的材質(zhì),設(shè)置好傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與脈沖式驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相連)其啟動(dòng)頻率,則可以實(shí)現(xiàn)在整個(gè)蒸鍍的過程中一旦噴口處溫度降低則將噴口轉(zhuǎn)至坩堝本體內(nèi),而將位于下方的噴嘴調(diào)至上方充當(dāng)噴口。
進(jìn)一步的技術(shù)方案是,噴嘴采用導(dǎo)熱系數(shù)高于坩堝本體的材質(zhì)制成,噴嘴的外周面套設(shè)保溫層;所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)為減速機(jī),減速機(jī)由電機(jī)驅(qū)動(dòng),電機(jī)及減速機(jī)設(shè)置在坩堝外部;轉(zhuǎn)軸上固定連接或卡接若干個(gè)噴嘴。電機(jī)的得電是脈沖式的,大部分時(shí)候是斷電的,需要調(diào)換噴嘴上下方向時(shí)才得電,然后轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)至噴嘴上下口調(diào)換后電機(jī)又失電。保溫層采用耐高溫隔熱材料制成,并且這樣的設(shè)置不需要額外增加熱源,就利用坩堝本身的熱源,相比于直接在噴嘴處加設(shè)熱源大大節(jié)約了熱量的消耗,結(jié)構(gòu)也相對(duì)簡(jiǎn)單。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





