[實用新型]一種可改善設備工作效率的傳感器單晶硅刻蝕裝置

有效

• 申請號: 201820485370.2
• 申請日: 2018-04-08
• 公開（公告）號: CN208023117U
• 公開（公告）日: 2018-10-30
• 發明（設計）人: 王曉陽
• 申請（專利權）人: 王曉陽
• 主分類號: C30B33/10
• 分類號: C30B33/10;C30B29/06;C23F1/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種可改善設備工作效率的傳感器單晶硅刻蝕裝置，其結構包括頂蓋、面板、提示裝置、顯示器、控制面板、按鈕、外殼、箱蓋、把手、底座、箱門、箱扣、支撐腳，外殼與控制面板為一體化結構，外殼與箱蓋相連接，箱蓋與把手為一體化結構，外殼與底座為一體化結構，底座與箱門相貼合，箱門與箱扣為一體化結構，底座底部與支撐腳頂部垂直焊接，本實用新型一種可改善設備工作效率的傳感器單晶硅刻蝕裝置，其結構上設有提示裝置，通過溫度感應器對溫度進行感應，當溫度過高時，可通過處理器對線圈通電使鐵塊變成電磁鐵，將右側的磁鐵吸附過來，帶動觸點，由左側的接觸點相觸碰，使警報器進行工作提示，避免溫度過高。

技術領域

本實用新型是一種可改善設備工作效率的傳感器單晶硅刻蝕裝置，屬于刻蝕領域。

背景技術

最普遍、也是設備成本最低的刻蝕方法，其影響被刻蝕物之刻蝕速率的因素有三：刻蝕液濃度、刻蝕液溫度、及攪拌之有無。定性而言，增加刻蝕溫度與加入攪拌，均能有效提高刻蝕速率；但濃度之影響則較不明確。

現有技術公開了申請號為：CN201520491978.2的一種可改善設備工作效率的傳感器單晶硅刻蝕裝置，其包括有反應室，反應室外側設置有電磁線圈；所述反應室外部設置有多個在水平方向上的置放端架，每一個置放端架的均沿反應室的側端面成環形延伸，電磁線圈固定于其所對應的置放端架的上端面；多個置放端架之間通過在豎直方向上延伸的支撐桿件進行連接；所述反應室的外部設置有多個升降絲桿，其連接至設置在反應室上端面的升降電機，所述升降絲桿與置放端架彼此固定連接，但是該現有技術在使用刻蝕裝置對單晶硅時，由于對液溫度感應不精準，導致單晶硅使用壽命降低。

實用新型內容

針對現有技術存在的不足，本實用新型目的是提供一種可改善設備工作效率的傳感器單晶硅刻蝕裝置，以解決現有在使用刻蝕裝置對單晶硅時，由于對液溫度感應不精準，導致單晶硅使用壽命降低的問題。

為了實現上述目的，本實用新型是通過如下的技術方案來實現：一種可改善設備工作效率的傳感器單晶硅刻蝕裝置，其結構包括頂蓋、面板、提示裝置、顯示器、控制面板、按鈕、外殼、箱蓋、把手、底座、箱門、箱扣、支撐腳，所述外殼與控制面板為一體化結構，所述外殼與箱蓋相連接，所述箱蓋與把手為一體化結構，所述外殼與底座為一體化結構，所述底座與箱門相貼合，所述箱門與箱扣為一體化結構，所述底座底部與支撐腳頂部垂直焊接，所述支撐腳上方設有箱門，所述底座與頂蓋相平行，所述提示裝置包括溫度感應器、處理器、鐵塊、磁鐵、滑塊、限位塊、觸點、接觸點、警報器、復位彈簧，所述溫度感應器與處理器電連接，所述處理器與鐵塊相連接，所述鐵塊與磁鐵相平行，所述磁鐵底部與滑塊頂部相貼合，所述滑塊與限位塊為一體化結構，所述觸點左側設有接觸點，所述接觸點與警報器為一體化結構，所述復位彈簧左側與磁鐵右側相貼合。

進一步地，所述頂蓋與面板為一體化結構，所述提示裝置與面板為一體化結構。

進一步地，所述顯示器嵌入安裝于控制面板表面，所述控制面板后端與面板前端相貼合。

進一步地，所述按鈕安裝于控制面板表面，所述顯示器下方設有按鈕。

進一步地，所述顯示器寬度為12cm。

進一步地，所述外殼采用304不銹鋼，耐腐蝕。

進一步地，所述支撐腳采用鋁合金，硬度高。

有益效果

本實用新型一種可改善設備工作效率的傳感器單晶硅刻蝕裝置，其結構上設有提示裝置，通過溫度感應器對溫度進行感應，當溫度過高時，可通過處理器對線圈通電使鐵塊變成電磁鐵，將右側的磁鐵吸附過來，帶動觸點，由左側的接觸點相觸碰，使警報器進行工作提示，避免溫度過高。

附圖說明